Маркин В.С.
Изобретатель Маркин В.С. является автором следующих патентов:

Электрофотографический материал
Электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки и нанесенного на нее полимерного светочувствительного слоя, содержащего органический полупроводник - поли-N-эпоксипропилкарбазол и сенсибилизатор, отличающийся тем, что, с целью увеличения фоточувствительности материала в области 400 - 460 нм, в качестве сенсибилизатора светочувствительный слой содержит дифторбор-1,3...
1137915
Производные 2,2-дифтор-1,3,2-диоксаборинов в качестве сенсибилизаторов поли-n- эпоксипропилкарбазола
Производные 2,2-дифтор-1,3,2-диоксаборинов формулы где R - CH3, C2H5, в качестве сенсибилизаторов поли-N-эпоксипропилкарбазола.
1185834
Электрофотографический материал
Электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки и нанесенного на нее полимерного фоточувствительного слоя, состоящего из органического полупроводника - полиимида общей формулы где n = 10 - 500; X - -CO-, -O-, и сенсибилизатора, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества материала за счет увеличения фоточувствительности его к монохроматическому свету с длин...
1190780
Триэтиламмониевая соль бис/2,2-дифтор-5,6-(бензотиено/2,3- е/)-1,3,2-диоксаборин-4/пентаметинциани на в качестве активной среды оптических квантовых генераторов, генерирующих излучение в красной области спектра
Триэтиламмониевая соль бис/2,2-дифтор-5,6-(бензотиено/2,3-е/)-1,3,2-диоксаборин-4/пентаметинцианина формулы в качестве активной среды оптических квантовых генераторов, генерирующих излучение в красной области спектра.
1215349
Электрофотографический материал
Электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки и нанесенного на нее полимерного светочувственного слоя, содержащего органический фотопроводник - поли-N-эпоксипропилкарбазол и сенсибилизатор, отличающийся тем, что, с целью повышения чувствительности электрофотографического материала в области спектра 465 - 520 нм, в качестве сенсибилизатора он содержит производные...
1235361
Фоточувствительный слой панхроматического электрофотографического материала
Изобретение относится к электрофотографии и позволяет повысить качество слоя за счет увеличения светопропускания в области 360 - 400 нм и спектральной чувствительности в области 400 - 500 нм. Фоточувствительный слой готовят обычным способом из смеси следующего состава, мас.%: ПЭПК 94,0 - 98,9, пирилиевая соль или производное 2,2-дифтор-1,3,2,-диоксиборина с максимумом поглощения 400 - 500...
1438481
Фоточувствительный слой электрофотографического материала для изготовления офсетных печатных форм прямым способом
Фоточувствительный слой электрофотографического материала для изготовления офсетных печатных форм прямым способом, содержащий органический фотопроводник и сенсибилизатор - пирилиевую соль, отличающийся тем, что, с целью улучшения его качества за счет повышения прочности на изгиб и упрощения состава, он в качестве органического полупроводника содержит карбазолилсодержащий полимер общей фор...
1575756
Электрофотографический способ изготовления офсетных печатных форм
Изобретение относится к полиграфии и позволяет улучшить их качество офсетных печатных форм за счет повышения прочности на изгиб и увеличения производительности процесса. Способ заключается в нанесении на алюминиевую подложку фоточувствительного слоя, содержащего органический фотопроводник - трифениламин или 1,3,5-трифенилпиразолин-2, или 1,3-дифенил-5-(о-метоксифенил)-пиразолин-2, или 1,5...
1614681
Способ получения фоточувствительной композиции для электрофотографического материала
Использование: в химико-фотографической промышленности. Сущность изобретения: проводят олигомеризацию эпоксидного мономера общей формулы I где или (R1=R2=H, Br, Cl; R3=H, B2) в присутвии 3 - 10 мол.% инициатора олигомеризации-эфирата трифторида бора- в хлористом метилене при температуре 40 2°С до образования олигомера общей формулы II где n = 3 - 6, а R имеет указанные значения, с по...
1822280
Способ изготовления сухого пленочного фоторезиста
Использование: для изготовления сухих пленочных фоторезисторов (СПФ). Сущность изобретения: способ изготовления СПФ водно-щелочного проявления поливом на ПЭТФ основу раствора, включающего мас. агент набухания-трихлоруксусную кислоту 7 9, бустиран 2 3, растворитель 96%-ный этан остальное, высушиванием политого слоя и сматыванием политого материала в рулон. Рулон легко разматывается, основа...
2047208