КИСИМОТО Кейсуке (JP)

Способ обработки подложки головки для выбрасывания жидкости включает в себя этап обеспечения подложки и этап обеспечения углубленного участка на задней поверхности подложки посредством выбрасывания жидкости в линейной форме от задней поверхности подложки, и посредством обработки задней поверхности подложки лазерным светом, который проходит вдоль по жидкости и в жидкости. Технический результат - п...

Изобретение относится к жидкой композиции, способу получения кремниевой подложки и к способу получения подложки для головки для выброса жидкости. Сущность изобретения: жидкая композиция, используемая для проведения анизотропного травления кристалла кремниевой подложки, снабженной маской для травления, формируемой из пленки оксида кремния, включает гидроксид цезия, щелочное органическое соединение...