Джипс Эндрю Филип (GB)

 Cпособ очистки газового потока UF6 предусматривает облучение газового потока UF6 лазерным излучением. Система очистки включает реакционный сосуд. В сосуд подают неочищенный UF6. Реакционный сосуд облучают лазерным излучением с энергией менее 24000 см-1 с помощью генератора. UF6 не диссоциируeт. Примеси переходят в нелетучее состояние. Газы выпускают из реакционного сосуда. Нелетучие приме...