Чайрев В.И.(RU)

 Изобретение относится к области изготовления тонкопленочных покрытий, в частности к вакуумному нанесению прозрачных низкоэмиссионных покрытий методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе на прозрачные материалы, такие как стекла или полимерные пленки. Покрытие содержит прозрачную подложку и по меньшей мере три слоя, расположенных в ней в следующем порядке: диэлектрик, м...