АРИФОВ У.А.
Изобретатель АРИФОВ У.А. является автором следующих патентов:
![Машина для оголения семян хлопчатника Машина для оголения семян хлопчатника](https://img.patentdb.ru/i/200x200/0c522e7e233556726bcd7beb5b02dce3.jpg)
Машина для оголения семян хлопчатника
-- - HA,у, ; /яю.;..:;. " ХГ I 47 К р. /\/) Я uIII в СAНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ (») э 43602 Рыяубвик (6l) Дополнительное к авт. свид-ву1 (22) Заявлено28.04.69 (21)1327664/28-12 1 с присоединением заявки №вЂ” (51) М. Кл. D Oj B 1/08 106чди; суВениыЙ кбиу3у 6оеауа М цгурор С:CP и ле". в из. 1брячнв (23) Приоритет1 (4Д) Опчблиуовано 25.06.76.бюллетень ¹ 1 9 (4:.:) ата оцубликования о...
343602![Способ электродуговой обработки Способ электродуговой обработки](https://img.patentdb.ru/i/200x200/1dcb79f83f355158f915b7b8db56cc08.jpg)
Способ электродуговой обработки
Ь СПОСОБ ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ОБРАБОТКИ, преимущественно изделий, имеющих форму тел вращения, при котором обрабатываемое изделие располагают внутри кольцевого неплавящегося электрода соосно ему и дугу возбуж". дают между электродом и изделием, отличающийся тем, что, с целью равномерного разогрева по всему периметру обрабатываемого участка изделия без использования внешнего магнитного по...
592058![Способ вторично-ионной масс-спектрометрии твердого тела Способ вторично-ионной масс-спектрометрии твердого тела](https://img.patentdb.ru/i/200x200/20d392abba67bcf776a8501b14d5a18a.jpg)
Способ вторично-ионной масс-спектрометрии твердого тела
СПОСОБ ВТОРИЧНО-ИОННОЙ МАСС-СНЕКТРОМЕТРИИ ПОВЕРХНОСТИ ТВЕРДОГО TEJIA, основанный на облучении твердого тела ускоренными первичными ионами с последующим масс-спектрометрическим анализом эмиттированных вторичных ионов, отличающийс я тем, что, с целью повышения точности анализа, исследуемый образец в виде пленки толщиной 100-1000 А бомбардируют первичными ионами в диапазоне энергий 1...
708794![Способ нанесения вакуумных покрытий на подложки с развитой поверхностью Способ нанесения вакуумных покрытий на подложки с развитой поверхностью](https://img.patentdb.ru/i/200x200/2ac2a7b7d08650ec3034a48a6201bb8b.jpg)
Способ нанесения вакуумных покрытий на подложки с развитой поверхностью
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ПОДЛОЖИ С РАЗВИТОЙ ПОВЕРХНОСТЬЮ, включающий создание атомарного потока наносимого материала его термическим испарением, рассеяние атомарного потока и осаждение на подложку, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества покрытий, рассеяние атомарного потока осуществляют термическим испаре-. нием, неравномерно нагревая наносимый материале...
818201