ШТЕККЕЛЬ Николас (DE)
Изобретатель ШТЕККЕЛЬ Николас (DE) является автором следующих патентов:

Радиационно-сшиваемые и термически сшиваемые полиуретановые системы на основе блок-сополимеров, реагирующих с изоцианатами
Настоящее изобретение относится к полиуретановым композициям для производства голографических сред, содержащим (А) один или более полиизоцианатов, (В) один или более реагирующих с изоцианатом блок-сополимеров, (С) одно или более соединений, имеющих группы, которые при актиничном облучении реагируют с соединениями, ненасыщенными по этиленовому типу, с полимеризацией, (D) необязательно один или бол...
2470953
Полиуретановая композиция для изготовления голографических сред, ее применение, способ записи голограмм и ненасыщенные уретаны
Настоящее изобретение относится к полиуретановой композиции для изготовления голографических сред, включающей компонент записывающего мономера a), содержащий в качестве записывающих мономеров, в пересчете на всю композицию, по меньшей мере, 10% масс. одного или нескольких ненасыщенных уретанов a) из группы соединений формул (I) и (III), а также полимерные соединения или соответствующие предшеств...
2515977