PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Селиверстов О.В.

Изобретатель Селиверстов О.В. является автором следующих патентов:

Способ эпитаксиального наращивания полупроводниковых твердых растворов

Способ эпитаксиального наращивания полупроводниковых твердых растворов

 Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано при получении приборных структур для микро- и оптоэлектроники с применением жидкостной эпитаксии. Целью изобретения является получение непрерывного ряда твердых растворов (Si2)xGaAs1-x на кремниевой подложке. Приготовляют насыщенный раствор - расплав мышьяка в олове и наносят его тонким слоем на пове...

1559970

Способ получения гетероэпитаксиальных слоев арсенида галлия

Способ получения гетероэпитаксиальных слоев арсенида галлия

 Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано при получении приборных структур для микро- и оптоэлектроники методом жидкостной эпитаксии. Целью изобретения является получение слоев арсенида галлия на подложках кремния и повышение их качества за счет улучшения планарности. Эпитаксиальное наращивание ведут из сильно пересыщенного раствора-расплава, что дости...

1589918

Способ определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава

Способ определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава

 Изобретение относится к физико-химическому анализу, а именно к способам определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава. Целью изобретения является повышение точности определения момента начала кристаллизации раствора-расплава. Расплав элемента III группы охлаждают и одновременно перемещают по поверхности кристалла AIIIBV c постоянной скоростью Vx. Фиксируют расс...

1602183

Способ лечения узловых форм заболеваний щитовидной железы

Способ лечения узловых форм заболеваний щитовидной железы

 Изобретение относится к эндокринологии и предназначено для лечения узловых форм заболеваний щитовидной железы. Воздействуют высокоинтенсивным лазером с помощью по меньшей мере одного световода. Световод доставляют по меньшей мере одним проводником к месту воздействия на глубину от 5,0 до 100,0 мм в толщу узла. Длительность вмешательства при использовании неодимового лазера составляет от 6...

2143933

Способ лечения диффузного токсического зоба

Способ лечения диффузного токсического зоба

 Изобретение относится к медицине, хирургии, может быть использовано при лечении заболеваний щитовидной железы. В ткань щитовидной железы вводят 96% этиловый спирт для разрушения ткани щитовидной железы. Этиловый спирт вводят под контролем ультразвукового исследования. В частном случае на курс используют 3-5 инъекций с интервалом 1-2 дня. Разовая доза соcтавляет 1-2 мл. Способ позволяет ис...

2146884