ЧЕЛУШКИН БОРИС СЕРГЕЕВИЧ
Изобретатель ЧЕЛУШКИН БОРИС СЕРГЕЕВИЧ является автором следующих патентов:
![Устройство для нанесения полимерных покрытий Устройство для нанесения полимерных покрытий](https://img.patentdb.ru/i/200x200/0e3745adcfc976b20d9c17da31fff476.jpg)
Устройство для нанесения полимерных покрытий
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (.Л.! 3727 Союз Советских Социалистических Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 06.04.73 (21) 1902714/05 с присоединением заявки № (51) М. Кл. - В 05В 5/08 Совета Министров СССР ло делам изобретений и открытий Опубликовано 15.05.76. Бюллетень ¹ 18 Дата опубликования описания 26.06.76 (53) УДК 678.026.34 (08...
513727![Устройство для нанесения полимерных покрытий Устройство для нанесения полимерных покрытий](https://img.patentdb.ru/i/200x200/efd4dc99df0cd9cfdf88caadf1c3733d.jpg)
Устройство для нанесения полимерных покрытий
О П И С А Н И Е „„ 2,9д9 ИЗОБРЕТЕН ИЯ Союз Советских Социалистических Республик К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено06.02. 73 (21) 1 880195/26 (51) М. Кл. В 05 В 5/08 с присоединением заявки № Гвсударственнь1й комитет Совета Министров СССР но делам иэооретений и открытий (23) Приоритет(43) Опубликовано25.07.76.Бюллетень №27 (53) УДК 678...
521939![Позитивный термостойкий фоторезист Позитивный термостойкий фоторезист](https://img.patentdb.ru/i/200x200/ecbf9446396698152afaf7e02104abef.jpg)
Позитивный термостойкий фоторезист
Область использования: в микроэлектронике . Сущность изобретения: позитивный термостойкий фоторезист содержит, мас.%: крезолоформальдегидная смола новолачного типа 19,45-23,1: смесь 1,2-нафтохинондиазид- (2)-5-сульфоэфир метиленбис-{2,4)-диоксибензофенона 4.4-8,24: 1,2- нафтохинондиазид-(2)-5-сульфоэфир 2,4-диоксибензофенона 2.06-2,2 или смесь 1,2-нафтохинондиазид-(2)-5-сульфоэфи...
1825425![Позитивный фоторезист Позитивный фоторезист](https://img.patentdb.ru/i/200x200/2d2c02b05ef11f4d103a983cbd7a5ced.jpg)
Позитивный фоторезист
Область использования: в микроэлектронике . Сущность изобретения: позитивный фоторезист содержит, мас.%: крезолоформальдегидная смола новолачноготипа марки СФ-142Б 18,1-21,75; 1.2-нафтохинондиазид-(2)-5-сульфоэфира 2,4-диоксибензофенона, 3,7- 5,3: 1.2-нафтохинодиаэид-{2}-5-сульфоэфир 2.2 , 4,4 -тетраоксибензофенона 3.8-5,4 или смесь 1,2-нафтохинондиаэид-(2)-5-сульфоэфир 2,4-диокс...
1825426