Яфаров Р.К.

 Изобретение относится к области плазменных технологий и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки материалов в микроэлектронике. Техническим результатом является увеличение диапазона управления пространственным распределением плотности плазмы при электронно-циклотронном резонансе (ЭЦР). Для достижения данного технического результата в микроволновом источнике плазмы с ЭЦР в...

 Использование: для обработки потоками ионов, атомов, молекул и радикалов инертных или химически активных газов слоев и пленочных материалов на ленточных носителях в микроэлектронике, оптике, стекольной и других отраслях промышленности. Сущность изобретения: в устройстве для микроволновой вакуумно-плазменной с электронно-циклотронным резонансом обработки конденсированных сред на ленточных...