Коваленко В.Б.
Изобретатель Коваленко В.Б. является автором следующих патентов:

Самовозбуждающаяся бесщеточная синхронная машина
Самовозбуждающаяся бесщеточная синхронная машина, содержащая якорь и индуктор с обмоткой возбуждения на полюсах, в поверхностных зубцовых слоях которых размещена якорная обмотка совмещенного индукторного возбудителя, подключенная через полупроводниковый преобразователь к обмотке возбуждения, отличающаяся тем, что, с целью увеличения перегрузочной способности, якорная обмотка возбудителя в...
1510669
Способ охлаждения полупроводниковых пластин и устройство для его осуществления
Использование: в микроэлектронике на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения заключается в следующем. В способе охлаждения полупроводниковых пластин между подложкодержателем и полупроводниковой пластиной размещают теплопроводящее вещество, в качестве которого используют газовую или воздушную прослойку, создаваему...
2153209
Способ получения покрытия из фоторезиста и устройство для его осуществления
Использование: микроэлектроника, на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения: способ получения покрытия из фоторезиста включает нанесение на подложку дозы фоторезиста, формирование слоя и его предварительную подсушку. При этом подложка помещается на пневмовихревую воздушную прослойку, разгоняется до определенной с...
2158987
Устройство охлаждения полупроводниковых пластин
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Устройство охлаждения полупроводниковых пластин содержит корпус с периферийной пневмокамерой, соединенной с магистралью подачи газа или воздуха и с рабочей зоной с одной его внешней стороны для размещения пластины, сообщающей...
2193258