Способ очистки поверхности полупроводниковых пластин и регенерации травильных растворов
Изобретение относится к очистке поверхности полупроводниковых пластин от металлических загрязнений, а также к регенерации отработанных травильных растворов и может быть использовано в радиотехнической, электротехнической и других отраслях промышленности. Способ включает травление полупроводниковых пластин в ванне с раствором NH4HF2, непрерывно инжектируемым потоком озон-кислородной смеси с конце...
