Антистатическая композиция
Использование: химико-фотографической промышленности. Сущность изобретения: антистатическая композиция, включающая мас. % на 1 г желатины дисперсию полимера: полиметилметакрилата или полистирола 0,2 - 10; антистатическое вещество (изооктилфеноксиполигликоль, тетранатриевую соль смешанного полиглицерида додецилянтарных и сульфоянтарных кислот) 3 - 15, растворитель - остальное. 2 табл. Изоб...
