Способ получения фотошаблонных заготовок
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, предназначенным для получения шаблонов с последующей передачей рисунка микроизображения на полупроводниковую пластину при изготовлении интегральных схем. Предлагается в процессе нанесения маскирующего слоя окиси железа окислительным пиролизом пентакарбонила железа в газ-носитель вводить окислитель в виде газообразного г...