Сухой пленочный фоторезист
Описывается сухой пленочный фоторезист, который используется для получения защитных рельефов с повышенной термостойкостью при изготовлении микросхем и плат печатного монтажа. Сухой пленочный фоторезист водно-щелочного проявления содержит карбоксилсодержащий полимер, полярный олигомер - метакрилированную эпоксидную смолу на основе 4,4'-диокси-(2,2-дифенилпропана) с мол. м. 540-600 у. е. ,...
