H01J27/08 - с использованием дугового разряда

Устройство для обработки подложек ионами углерода

Изобретение относится к ионно-вакуумной обработке материалов. Цель - повысить эффективность технологического оборудования . Устройство содержит подложкодержатель и источник ионов дугоплазматронного типа, размещенные в вакууме, дополнительный электрод с апертурой, установленный на оптической оси ионного пучка на расстоянии , равном 0,6-0,7 от расстояния между извлекающим электродо...

1685210

Ионный источник

Использование: для комплексной поверхности вакуумно-плазменной обработки инструмента, деталей машин и иных изделий. Сущность изобретения; в разрядной полости вакуумной камеры ионного источника возбуждается двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд с интегрально-холодным катодом Для этого между анодом и катодом устанавливается перегородка, делящая разрядную полость на катодную и ано...

2002333

Способ генерирования ионного пучка

Использование: для вакуумно-плазменной обработки инструмента деталей машин и прочих изделий . Сущность изобретения: в разрядной полости вакуумной камеры возбуждают двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд с интегрально-холодным катодом, включающий пространственно разделенные металлогазовую и газовую ступени Эмиссионную сетку располагают в зоне газовой ступени разряда Подачу страда...

2002334

Установка для генерирования ионного пучка большого сечения

Использование: для комплексной вакуумноплазменной обработки инструмента, деталей машин и иных изделий. Сущность изобретения катод установки для генерирования ионного пучка выполнен в виде интегрально-холодного катода вакуумнодугового разряда Между анодом и катодом установлена непроницаемая для ионов, но проницаемая для электронов перегородка, разделяющая разрядную полость камеры...

2003196

Способ генерирования ионного пучка

Использование: для вакуумно-плазменной обработки инструмента, деталей машин и прочих изделий. Сущность изобретения: в разрядной полости вакуумной камеры возбуждают двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд с интегрально-холодным катодом, включающий разделенные металлогазовую и газовую ступени. Эмиссионную сетку располагают в зоне газовой ступени разряда. Подачу отрицательного потенциала на...

2038643

H01J27/08 - с использованием дугового разряда

Патенты в этой категории