Способ изготовления областей истока матрицы запоминающих ячеек быстрого электрически стираемого программируемого постоянного запоминающего устройства
Использование: при изготовлении запоминающих ячеек. Сущность изобретения: для защитной изоляции на полупроводниковую подложку наносят многослойную структуру (сэндвич) оксид кремния-поликристаллический кремний-оксид кремния. Для легирования областей истока и соединительных дорожек истока наносят маску фоторезиста, которая оставляет свободными области между шинами слов соответствующей пары...