Институт ядерной физики им. Г.И.Будкера СО РАН (RU)

Использование: для изготовления литографической маски. Сущность: формируют на рабочей поверхности несущей мембраны топологический рентгенопоглощающий рисунок, при этом идентичный топологический рентгенопоглощающий рисунок из того же материала (или комбинации материалов), такой же толщины и пространственно совмещенный с первым формируют также и на противоположной стороне несущей мембраны. Техническ...