Учреждение Российской академии наук Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова, РАН (RU)

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано в технологии наноимпринт-литографии при получении упорядоченных массивов магнитных и других наноструктур. Изобретение направлено на обеспечение контроля за формированием рельефа без ограничений на оптические свойства подложек. Способ включает образование рельефа в слое резиста, нанесенного на подложку, методом наноимпри...