Общество с ограниченной ответственностью "Нанометр" (RU)

Изобретение относится к области очистки сапфировых подложек для гетероэпитаксии нитридов III группы, которые в дальнейшем применяются для изготовления различных оптоэлектронных элементов и устройств. Сущность изобретения: способ очистки поверхности сапфировых подложек, прошедших финишную полировку растворами силиказолей, предусматривает размещение подложек в металлические кассеты, ультразвуковую...

Изобретение относится к области производства подложек из лейкосапфира для гетероэпитаксии нитридов III группы. Изобретение обеспечивает получение пластин лейкосапфира с содержанием в них активных примесей на уровне 0,005÷0,01% и получению из них подложек, стойких к воздействию отжига на воздухе при температурах 1000÷1400°С в течение 2 часов и ультрафиолетового облучения в течение 1 часа при комна...