PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Учреждение Российской академии наук институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН (RU)

Учреждение Российской академии наук институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН (RU) является правообладателем следующих патентов:

Твердотельный источник электромагнитного излучения

Твердотельный источник электромагнитного излучения

Заявляемое устройство относится к спинтронике и фотонике и предназначено для генерации когерентного и некогерентного электромагнитного излучения в диапазоне террагерцовых частот. Твердотельный источник электромагнитного излучения содержит рабочий слой, выполненный в виде пленки из проводящего ферромагнитного материала, первый электрод из проводящего ферромагнитного материала, контактирующий с раб...

2464683

Способ соединения деталей из тугоплавких оксидов

Способ соединения деталей из тугоплавких оксидов

Изобретение относится к области изготовления деталей для оптических, акустоэлектронных и лазерных устройств, где в качестве активных и пассивных материалов используются тугоплавкие оксиды, преимущественно, двух-, трех- и четырехвалентных металлов, как в форме простых оксидов, так и сложных соединений. Способ соединения деталей из тугоплавких оксидов включает полировку соединяемых поверхностей, их...

2477342

Твердотельный датчик магнитного поля

Твердотельный датчик магнитного поля

Изобретение относится к области измерительной техники и твердотельной электроники и может быть использовано при создании миниатюрных датчиков магнитного поля для применения в магниточувствительных электронных микросистемах управления приводами, бесконтактных переключателях, дефектоскопии, при создании мобильных магнитолокаторов наземного воздушного и космического базирования и аппаратуры навигаци...

2478218

Подложка для выращивания эпитаксиальных слоев арсенида галлия

Подложка для выращивания эпитаксиальных слоев арсенида галлия

Изобретение относится к электронной технике, а именно - к материалам для изготовления полупроводниковых приборов с использованием эпитаксиальных слоев арсенида галлия. Сущность изобретения заключается в использовании для выращивания эпитаксиальных слоев GaAs подложек из интерметаллических соединений, имеющих строго стехиометрический состав, а именно из лантанидов галлия GaLa3 и Ga3La5, цирконидо...

2489533