Общество с ограниченной ответственностью "СЕМПОН-2" (UA)

Изобретение относится к плазменному оборудованию для многослойного нанесения пленочных покрытий при изготовлении приборов электронной техники. Устройство содержит технологическую вакуумную камеру (1) со средствами откачки и систему напуска и дозирования технологического газа, два или больше размещенных по периферии камеры дуговых источника (2) наносимого материала с источниками питания, столик (...

Изобретение относится к устройствам технологического оборудования и может быть использовано в технологии производства электронных компонент. Плазменный реактор с магнитной системой отличается тем, что электроды емкостного возбуждения выполнены в виде двух полых цилиндров, расположенных внутри камеры коаксиально, антенна индукционного возбуждения размещена радиально симметрично по отношению к пол...