ПАРК ВЭЙ КО., ЛТД. (JP)
ПАРК ВЭЙ КО., ЛТД. (JP) является правообладателем следующих патентов:

Расческа
Обеспечивается возможность простого формирования равномерного начеса. Расческа 1 содержит суммарно три ряда наружных зубьев 7, 8 расчески и внутренних зубьев 20 расчески, причем размер шага внутренних зубьев 20 расчески меньше размеров шага наружных зубьев 7, 8 расчески. Каждый внутренний зуб 20 расчески выполнен со ступенчатой частью на среднем участке зуба расчески в направлении его выступания,...
2639628