Устройство для распыления жидкости

Устройство для распыления жидкости

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ ЖИДКОСТИ по авт. св. № 835501, отличающееся тем, что, с целью повышения равномерности плотности факела распыла, оно снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным поршнем . i (Л ел QD Оо 4

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

„,SUÄÄ 1005934 э юв В 05 В 1/14

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСКОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР по делАм изОБРетений и ОтнРытий (61) 835501 (21) 3382832/23-.05 (22) 22.01.82 (46) 23.03.83. Бюл. № 11 (72) Н. И. Никулин, И. И. Поярков и

В. Н. Комаров (53) 66.069.83 (088.8) (56) l. Авторское свидетельство СССР

¹ 835501, кл. В 05 В 1/14, 1979 (прототип). (54) (57) УСТРОИСТВО ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ ЖИДКОСТИ по авт. св. № 835501, отличающееся тем, что, с целью повышения равномерности плотности факела распыла, оно снабжено размешенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным поршнем.

1005934

Изобретение относится к устройствам для распыления жидкости, используемым преимущественно в полупроводниковом про. изводстве для распыления проявляющего раствора при фотолитографической обработке полупроводниковых пластин и фотошабло нов.

По основному авт. св. Хи 835501, известно устройство для распыления жидкости, содержащее полый цилиндр с отверстиями, равномерно расположенными в его стенке, причем на наружной поверхности цилиндра по его образующей выполнен паз, сообщающийся с отверстиями, при этом ширина паза равна диаметру отверстий, а глубина — двум диаметрам отверстий (1).

Недостатком устройства является то, что при изменении давления в магистрали подачи жидкости плотность факела распыла изменяется. Однако в ряде технологических процессов, например при появлении полупроводниковых пластин и фотошаблонов в процессе их фотолитографической обработки, необходимо подавать проявляющий раствор в виде сплошной и равномерной по плотности завесы. Малейшее изменение плотности факела распыла приводит к изменению скорости проявления, в результате чего часть полупроводниковых пластин или фотошаблонов отходит в брак по причине недопроявления (если плотность факела распыла уменьшается) или перепроявления (если плотность факела распыла увеличивается).

Целью изобретения является повышение равномерности плотности факела распыла.

Поставленная цель достигается тем, что устройство для распыления жидкости снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным поршнем.

На фиг. 1 изображено устройство для распыления жидкости, общий вид; на фиг. 2 — разрез А — А на фиг. 1.

Устройство содержит полый цилиндр 1 с отверстиями 2, равномерно расположенными в его стенке. На наружной поверхности цилиндра 1 по его образующей выполнен паз 3, сообщающийся с отверстиями 2. Ширина паза 3 равна диаметру 4 отверстий, а глубина — двум диаметрам

d отверстий.

Кроме того, устройство для распыления жидкости снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным с помощью пружины 4 поршнем 5.

Устройство работает следующим образом.

Жидкость, например проявляющий раст. вор, под определенным давлением подается в полость цилиндра 1 и через отверстия 2 распыляется наружу в виде струй.

Благодаря наличию паза 3 в результате взаимодействия всех струй образуется линейная струя равндмерной плотности, ширина которой равна ширине паза 3. Ра.гмеры паза 3 были подобраны экспериментальным путем. При этом было установлено, что при всех других соотношениях размеров паза 3 и отверстий 2 ламинарность потока, а следовательно, и его равномерность нарушались.

При увеличении давления в магистрали подачи жидкости, а следовательно, и в полом цилиндре 1 поршень 5, сжимая пру25 жину 4, перемещается влево (фиг. 1). При этом открывается несколько дополнитель. ных отверстий 2 и увеличение плотности факела распыла не происходит. При уменьшении давления жидкости поршень 5 под действием пружины 4 перемещается вправо (фиг. 1). Вследствие этого несколЬко отверстий 2 перекрываются поршнем 5 и расход жидкости уменьшается, а плотность факела распыла остается практически постоянной.

Таким образом, изобретение обеспечивает создание равномерной струи распыляемой жидкости, плотность которой практически не изменяется при изменении давления жидкости внутри полого цилиндра.

Проявление полупроводниковых пластин и заготовок фотошаблонов струей прояви4 теля постоянной плотности обеспечивает повышение качества проявления и повышение выхода годных изделий на 0,8 — 1,5 /р

1005934

Фиг.2

Составитель А. Чал-Борю

Техред И. Верес Корректор М. Шарошн

Тираж 687 Подписное

ВНИ И ПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

1 l3035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Редактор О. Юрковецкая

Заказ 986/! 4