Стекло для покрытия металла

Стекло для покрытия металла

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СТЕКЛО ДЛЯ -ПОКРЫТИЯ МЕТАЛЛА , включающее Р BaO, SrO, Sn02 о т л и ч a щ е е с я тем, что, с целью обеспечения КЛТР

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

tNIWI

PEG %ËÈÍ

С 03 С 3/16

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ILBTOPCKOMV СВИДЕТЕ7ВСТВМ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬ1ТИЙ (2l ) 3353814/29-33 (22) 22.09.8l (46) 30.03,83. Бюл. У 12 (72) В. 3. Петрова, И. О. Стернюк;

О. В. Бобицкая, Г, М. Сачко, IO.В.ldeaченко и lO. Я. Яковлев (71) Львовский государственный институт прикладного и декоративного искусства (53) 666. 112 . 92: 546. 15(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

М 480661 кл. С 03 С 7/00, 1973.

2, Авторское свидетельство СССР

М 627093, кл. С 03 С 7/00, 1977 (прототип) °

„„Я0„„1008175 А (54) (57) СТЕКЛО ДЛЯ ПОКРЫТИЯ МЕТАЛЛА, включающее Р20, ВаО, Sr0, Srt0, о т л и ч а Е щ е е с я тем, что, с целью обеспечения КЛТР (87,19-103 00)»

40 град и повышения химической стойкости, оно дополнительно содержит 2по, La20 А1203 при следу щем соотношении компонентов, мас. :

Pg О 58-60

ВаО 9-15

Sr0 7-10

Ьп02 0,5-1,5

Zn0 5-.10

203 6-10

А120 05-1 5

1008175

Изобретение относится к составам стекол, применяемых для получения изолирующих покрытий по металлам, используемых в различных областях промышленности (электронной, радиотех-$ нической и др.) .

Известна эмаль, включающая, мас,Й

Р2ОУ 45-70; Li 021-5; Na20 1-5;К>0

0,1-5; А1 0 0>1-5; РвО 10-30; SiOg, 0,1-5; ВаО 0,1-7; Li Г 1-10 и NaF 1"

10 Г1 Ъ

Данная эмаль имеет KJlTP при 20250 С (120-150) ° 10 "град ",äèëàêòîэлектрическая температура размягчения 250-280 С.

Наиболее близкой по технической сущности и достигаемому результату к предлагаемой является. эмаль, включающая, мас,4 Р О 40-60; РвО 415; Ма О 2-5; К20 1-4; Li20 0,3-2; 16

S i 0 2 0, 5-7, по крайней мере один окисел из группы ВаО, SrO 10-30;

znclgo>5-5; su0g 5-20 P? J. с

Компоненты

Sr0

10

10

Zn0

10

20Э

ВаО

13

0>5

1

1 5

0,5

1 5

А1 0

Sn02 вводят посредством соответству.ющего окисла.

Отжиг образцов осуществляют в электрической печи (муфельной) в течение

18 ч при 350-400оo.

Свойства стекал приведены в табл.2.

Т а б л и ц а 2

Стекло синтезируют из химических реактивов х.ч. и ч.д.а. Р Ос вводят посредством однозамещенного фосфорнокислого аммония, оксид стронция стронция азотнокислого, оксид бария45 углекислого бария, Zn0, А1203> La20>>

0,18

0,210 0,223 0,20 д ) клтР (2o-4oo) с -10 град-"

99>37 87>19 103,00 92,35

Химическая устойчивость к воде (потери веса, мг/г> после

3 ч кипячения в все

Недостатком известного стекла яв- ляется высокий КПТР в пределах. 20400 С (124-146)10 >град " Кроме того, стекло имеет невысокую химическую устойчивость к воде 0,4-6,4 вес.4.

Цель изобретения - обеспечение

КПТР (87,19-103,00) 10 град "и повышение химической стойкости.

Поставленная цель достигается тем, что стекло для покрытия металла, включающее Р20, ВаО, Sr0, Sn02, дополнительно содержит Zno La О

2 Э

А120 при следующем соотношении компонентов> мас. :

Р205 58-60

ВаО 9-15

S r0 7-10

ЬыОд 0,5-1>5

Zn О 5-10

1.а, 03

6-10

А1203 0,5-1,5

Конкретные составы стекол приведены в табл. 1.

Таблица

Состав мас

2 Д 1 м

59 60 60

1008175

Продолжение табл. 2

Свойства

Состав

l 2 3

АилайтЬметрическая температура размягчения,оc 544

539 521.Плотность, г/см 3.39

3,20 3,17 3 19

Редактор П.ФилЬ

Техред I.Êàñòåëåâè÷ КорректоР И. Шулла

Заказ 2259/31 . Тираж 484 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035,. Иосква Х-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Стекло характеризуется ill гидроли-. .тическим классом, высокой химической устбйчивостью к воздействию реагентов, применяемых в фотолитографическом процессе (например, к действию HF Н О С г О Н О4 НЙО . l

< НЗР04 КЛТР(87,19-103,00):10 т граФГЯ

;хорошей адгезией к металлу, что определяет его наиболее выгодным для покрытий по металлу, в частности, для получения качественного изолирующего покрытия по титану.