Устройство для измерения парциального давления кислорода в вакууме

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН

„„su„„>ооввзз A

ply) 9 01 I 21/30

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТЙРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1(61) Р 851143 (21) 3274109/18-10 (22).14.04.81 .(46) 30.03.83. Вюл. Р 12 (72) С.П.Голубков, П.М.Таланчук, Ю.Н.Окуневский, О.Е.Цветкова и A.Â.Смолий (71) Киевский ордена Ленина политехнический институт им. 50-летия

Великой Октябрьской социалистической революции (53) 531.787(088.8) (54)(57 ) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЭИЕРЕНИЯ

ПАРЦИАЛЬНОГО ДАВЛЕНИЯ КИСЛОРОДА В

ВАКУУМЕ по авт. св. 9 851143, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения чувствительности эа счет выравнивания температурнрго поля диэлектрической подложки, в " нем нагреватель выполнен с переменной шириной, увеличивающейся от

его краев к середине.

1008632

ВНИИПИ Заказ 2329/54 Тираж 871 Подписное

Филиал ППП "Патент", r.Óærîðoä, ул.Проектная,4

Изобретение относится к измерительной технике и может быть исполь- зовано при измерейии парциального давления кислорода в вакууме.

По основному авт. св. Р 851143 известно устройство для измерения парциального давления кислорода в вакууме, содержащее корпус, на котором закреплена диэлектрическая подложка с расположенными на ней в виде разделенных диэлектриком слоев термометра сопротивления, нагревателя и чувствительного слоя с катодом и анодом.

Недостатком этого устройства яв- 15 ляется неодинаковая температура на поверхности диэлектрической подложки, обусловленная теплоотводом с диэлектрической .подложки по изоляторам на которых закреплена 2О подложка, а также по выводам с чувствительного слоя, нагревателя, термометра сопротивления. Это приводит к различной чувствительности в разных точках поверхности чувствительного слоя — большей в центре и меньшей по краям. Вследствие этого снижается общая чувствительность устройства к парциальному давлению кислорода. 30

Цель изобретения — повышение чувствительности за счет выравнивания температурного поля диэлектрической подложки.

Указанная цель достигается тем, что в устройстве нагреватель выполнен c ïåðåìåííîé шириной, увеличивающейся от его краев к середине.

На фиг. 1 изображено устройство

I в разрезе; на фиг. 2 — нагревательный элемент в плане.

Устройство содержит корпус 1 с крышкой 2. На корпусе закреплены изоляторы 3, на которых расположена подложка 4. На подложке 4 расположены слой термометра 5 сопротивления с контактными площадками, диэлектрик

6, слой 7 нагревателя, имеющий переменную площадь поперечного сечения с контактными площадками 8, диэлектрик 9, чувствительный слой 10 с катодом и анодом.

На фиг. 2 приведена форма слоя 7 нагревателя, .имеющая переменную ширину, увеличивающуюся от его краев к середине. Такая форма нагревателя позволяет получать равномерное температурное поле на .поверхности подложки.

Измеритель работает следующим

Образом.

При взаимодействии молекул кислорода с поверхностью чувствительного слоя 10 при температурах

400-600оC изменяется сопротивление чувствительного слоя 10. Величина

его сопротивления является функцией парциального давления кислорода в, вакууме. Получение температуры 400600оС и измерение ее величины осуществляется соответственно нагревателем 7 и термометром 5 сопротивления.

Таким образом, использование нагревателя, выполненного с переменной шириной, увеличивающейся от его краев к середине, позволило повысить чувствительность устройства..