Оснастка для вакуумной формовки

Оснастка для вакуумной формовки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

1. ОСНАСТКА ДЛЯ ВАКУУМНОЙ : ФОРМОВКИ, соде ржащая. вакуумируемую камеру с газопроницаемой рабочей поверхностью , штуцер для подключения к вакуумирующей системе, перфорированную подмодельную плиту с координатными отверстиями для установки сменных моделей и с попарно--координатными отверстиями для установки направляющих штырей, сменные на правляющие штыри и опоку о т л и чающаяся тем, что, с целью . снижения затрат на оснастку и уменьшение расхода формовочных материа тг; С ;пш; А 5 Й| ЛЙОТЙ,ЙА лов и синтетической плеНки, в перфорированной подмодельной плите выполнены дополнительные попарно координатные отверстия для сменных направляющих штырей, а между вакуумируемой камерой и перфорированной подмодельной плитой расположен сменный газонепроницаемый лист, герметично перекрывающий газонепроницаемые отверстия в вакуумируемой камере и перфорированной подмодельной плите, выходящие за площадь, ограниченную опокой. 2.Оснастка по п.1, о т л и чающаяся тем, что попарнокоординатные отверстия для сменных I направляющих штырей расположены, на или параллельно осевой линии, w соединяющей базовые попарно коор-г дина ные отверстия, или под углом с: к осевой линии., 3.Оснастка по п.1, о т л и. чающа .яся тем, что Сменный газонепроницаемый лист выполнен из металла или синтетического материала

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ДВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

10 17

Уие. 1 (21) 3395461/22-02 (22) 11.02.82 (46) 23.07.83. Вюл. Р 27 .(72) С.М.. Потапов, В.Д. Паршин, Г.И. Шандриков, А.A. Горячев и З.A. Утешена

;(53) 621.744.06(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

9 755412, кл. В 22 С 7/00, 1980.

2. Авторское свидетельство СССР .Р 680803, Кл. В 22 С 7/04, 1979. ((54)(57) 1. ОСНАСТКА ДЛЯ ВАКУУМНОЙ

ФОРМОВКИ, содержащая, вакуумируемую камеру с газопроницаемой рабочей поверхностью, штуцер для подключения к вакуумирующей системе, перфорированную подмодельную плиту с коордийатными отверстиями для установки сменных моделей и с попарно-координатными отверстиями для установки направляющих штырей,. сменные на правляющие штыри и опоку, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью . снижения затрат на оснастку и уменьшение расхода формовочных материа,„80„„1ОЗООЭО

359 В 22 С 9 02; В 22 С 7 04 лов и синтетической пленки, в перфорированной подмодельной плите выполнены дополнительные попарно координатные отверстия для сменных направляющих штырей, а между вакуумируемой камерой и перфорированной подмодельной плитой расположен сменный газонепроницаемый лист, герметично перекрывающий газонепроницаемые отверстия B вакуумируемой камере и перфорированной подмодельной плите, выходящие за площадь, ограниченную спокой.

2. Оснастка по п.1, о т л ич а ю щ а я с я тем, что попарно" координатные отверстия для сменных направляющих штырей расположены ° Я на или параллельно осевой линии, соединяющей базовые попарно коор-. динатные отверстия, или под углом к осевой линии. С".

3. Оснастка по п.1, о т л и,ч а ю щ а я с я тем, что сменный я газонепроницаемый лист выполнен из металла или синтетического материала„

1030090

Изобретение относится к литейному производству, в частности к конструк- ции оснастки для вакуумной. формовки.

Известна оснастка для вакуумной формовки, содержащая подмодельную плиту в виде корпуса с закрытой полостью, перфорированной рабочей поверхностью и штуцером для подключения к вакуумирующей системе, сменную гаэонепроницаемую вставку с моделями, конуктор, направляющие штыри для опок 1 ), Наиболее близкой к изобретению по технической сущности и достигаемому результату является оснастка для вакуумной фоРмовки, содержащая 15 вакуумируемую камеру с гаэопроницаемой рабочей поверхностью, штуцер для подключения к вакуумирующей системе, перфорированную подмодельную плиту с координатными отверстиями для установки сменных моделей и с попарно координатными отверстиями для установки направляющих штырей, сменные направляющие штыри и опоку 2 ).

Недостатком известных оснасток является то, что они могут быть использованы только для изготовления форм в опоках одного типоразмера н свету, что приводит при формовании по малогабаритным моделям к увеличенному расходу формовочных материалов и синтетической пленки.

Кроме того, н конструкции той или другой оснасток имеются элементы,;. применяемые только для конкретной 35 номенклатуры отливок (сменная газопроницаемая вставка, кондуктор, сменный перфорированный лист), что увеличинает затраты на оснастку и подготовку производства. 40

Цель изобретения — снижение затрат на оснастку и уменьшение расхода формовочных материалов и синтетической пленки.

Указанная цель достигается тем, что в оснастке для вакуумной формовки, содержащей накуумируемую камеру. с газопроницаемой рабочей поверхностью, штуцер для подключения к вакуумирующей системе, перфорированную подмодельную плиту с координатными .отверстиями для установки сменных моделей и с попарно координатными отверстиями для установки направляющих штырей, сменные направляющие штыри и опоку,:в перфорированной подмодельной плите выполнены дополнительные попарно координатные отверстия для сменных направляющих штырей, а между вакуумируемой камерой и перфорированной под- 60 модельной плитой расположен сменный гаэонепроницаемый лист, герметично перекрывающий газонепроницаемые отверстия в вакуумирующей камере и перфориронанной подмодельной плите, вы- 65 ходящие за площадь, ограниченную опокой.

Кроме того, попарно координатные отверстия для сменных направляющих штырей расположены на или параллельно осевой линии, соединяющей баэоные попарно координатные отверстия, или под углом к осевой линии.

Причем сменный Газонепроницаемый лист выполнен из металла или синтетического материала.

На фиг. 1 изображена оснастка. общий вид, разрез; на фиг. 2 - узел

1 на фиг.1; на фиг. 3 — некоторые возможные варианты расположения опок на перфорированной подмодельной плите.

Оснастка для вакуумной формовки содержит (фиг. 1 и 2) накуумируемую камеру 1, имеющую сквозные отверстия

2 с рабочей стороны и штуцер 3 для подключения к вакуумирующей системе (не показана), сменный газонепроницаемый лист 4, перфорированную подмодельную плиту 5 с базовыми 6 и дополнительными 7 попарно координатными отверстиями для установки сменных направляющих штырей 8 и с коор" динатными отверстиями 9 для крепления модели 10 с помощью штифтов 11. Попарно координатные отверстия 7 и координатные отверстия 9, находящиеся в площади опоки 12 и не перекрываемые полностью моделью 10,.закрывают. с рабочей стороны подмодельной плиты заглушками 13 и 14. Заглушки могут быть выполнены из постоянных магнитов, что обеспечивает их фиксацию на подмодельной плите, выполненной иэ магнитных материалов. Если же подмодельная плита выполнена из немагнитных материалов (например,из алюминиевого сплава), то в отверстиях 7 и 9 устанавливают вставки 15 и 16 иэ магнитных материалов (например, в виде кольца из магнитных марок стали). Опоку 12 устанавливают на подмодельную плиту с моделями после облицования их рабочей понерхности синтетической пленкой 17.

На фиг. 3 А, Б,  — возможное расположение опок, которые установлены по направляющим штырям, расположенным на осевой линии, соединякрцей основные попарно координатные отверстия, Г и Д вЂ” возможное расположение опок, которые установлены по направляющим штырям, расположенным на линиях перпендикулярных осевой.

Подготовку оснастки и изготовление форм с ее помощью осуществляют следующим образом.

При смене модельной оснастки. на вакуумируемую камеру 1 накладывают газонепроницаеьый лист 4, на который устанавливают перфорированную подмодельную плиту 5 и крепят ее и вакуумной камере, обеспечивая герметизацию

1030090 меяду взаимно соприкасающимися по верхностями вакуумной камеры, газо" непроницаемого листа и перфорированной подмодельной плиты. Сменный гаэонепроницаеьый лист выполнен таким образом, что он-обеспечивает перекрытие в вакуумирующей камере 1 и подмодельной плите 5 всех газопроницаемых отверстий, которые выходят за площадь, ограниченную размерами опо- . ки 12. Затем на перфорированную.под- 10 модельную плиту 5 устанавливают модель 10, фиксируемую относительно плиты с помощью координатных отверстий 9 и штифтов 11 и направляющие штыри 8. В координатные отверстия 9 5 и.попарно координатные отверстия б и 7, которые полностью не перекрываются моделью 10 и находятся в площади опоки, устанавливают заглушки

13 и 14 из постоянных магнитов. Заглушки 13 и 14 выполняют с размерами, обеспечивающими их установку в отверстиях 7 и 9 заподлицо с подмодельной плитой, Заглушки 13 и 14 в виде постоянных магнитов могут быть выполнены иэ высокоэффективных магнитных материалов, например типа

ЮНДК-35 или SmC05, что обеспечивает их надежное укрейление на подмэдельной плите.

Изготовление форм по данной оснастке осуществляют по известной схеме, включая создание вакуума в полости вакуумируемой камеры 1 через штуцер 3, подсоединенной к системе вакуумирования, и отсасывание . 35 через сйстему отверстий в вакуумируемой камере 1, подмодельной плите

5 и модели 10 воздуха из-под налагаемой на модель 10 синтетической пленки 17, которая предварительно нагрета до температуры оптимальной пластичности. Под действием атмосферного давления синтетическая пленка.17 плотно облицовывает модель 10. Затем на облицованную синтетической пленкой 17 подмодельную плиту 5 устанавливают опоку 12, заполняют ее формовочным материалом и известными методами получают готовую форму.

Предлагаемая конструкция оснастки позволит использовать разнотипные (по размеру в свету) опоки, экономить формовочные материалы и синтетическую пленку, а также повысить коэффициент загрузки машин для вакуумной формовки, что особенно важно в индивидуальном и мелкосерийном производстве. Данная оснастка обеспечивает также снижение затрат на подготовку производства, так как количество типоразмеров газопроницаемых листов зависит только от количества типоразмеров опок, которых значительно меньше, чем типоразмеров моделей.

Предлагаемое решение позволяет снизить расход формовочных материалов на 30-50% и синтетической пленки в 1,5-4 раза при переходе изготовления форм с крупногабаритных на малогабаритные модели, снизить на 20-30% затраты на изготовление оснастки. Экономический эффект на один комплекс оснастки составляет

85 руб.

1030090

Составитель A. Мннаез

Редактор Г. Ус Техред О.Неце КорректорA. IIosx

° е ° веюевюавюеи ва ме в ° °

Заказ 5060/13 Тираж 813 Подписное

BHHHIIH Государстненного комитета СССР по делам изобретений н открытий

113035, Москэа, Ж-35, Раушскай наб., д. 4/5 еавеею е месв» филиал ППП "Патент",- r. Ужгород, ул, Проектная, 4