Способ формирования разнокоэрцитивных участков тонкой магнитной пленки на светочувствительной стеклянной подложке

Патент 1053159

Авторы

Иллюстрации

Показать все

Реферат

1. СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РАЗНОКОЭРЦИТИВНда УЧАСТКОВ ТОНКОЙ МАГНИТНОЙ ПЛЕНКИ НА СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ СТЕКЛЯННОЙ ПОДЛОЖКЕ, основанный на напьшении тонкой магнитной пленки на светочувствительную стеклянную подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности формирования разнокоэрцитивных участков тонкий магнитной пленки путем повышения однородности их кристаллической структуры, перед напьшениегл проводят кристаллизацию локальных участков светочувст .вительной стеклянной подложки путем избирательного воздействия ультрафиолетовым излучением и последующей термообработки. 2.Способ по .п. 1, о т л и ч а ю щ и и с я тем, что, воздействие ультрафиолетовым излучением на светочувствительную подложку осуществляют в течение 5-60 мин. 3.Способ по пп. 1 и 2, о т л и чающийся тем, что термообработка светочувствительной стеклянi ной подложки осуществляется путем ее нагрева до температуры ниже температуры размягчения стекла с изо:термической .выдержкой в течение 1060 мин.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПж ЛИК (19) (П) (51) С 11 С 5/04; О 11 C 11/14

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕЫИЯ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPblTVN

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3434555/18-24 (22) 04,05.82 (46) 07.11..83. Бюл. У 41 (72) В.М. Зуев и A.Е. Либовнер (53) 681.327.66(088 ° 8) (56) 1. Патент CIA )) 3607677, кл. 0 11 С 11/14, опублик. 1972.

2. Авторское свидетельство СССР

9 278764, кл. G 11 С 5/04, 1969 (прототип). (54)(57) 1. СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ

РАЗНОКОЭРЦИТИВНЬИ УЧАСТКОВ ТОНКОЙ

МАГНИТНОЙ ПЛЕНКИ HA СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬ.

НОЙ СТЕКЛЯННОЙ ПОДЛОЖКЕ, основанный на напылении тонкой магнитной .пленки на светочувствительную стеклянную подложку, о т л и .ч а юшийся тем, что, с целью повыщения надежности формирования разнокоэрцитивных участков тонкой магнитной пленки путем повыаения однородности их кристаллической структуры, перед напылением проводят кристаллизацию локальных участков светочувст. вительной стеклянной подложки путем избирательного воздействия ультра. фиолетовым излучением и последующей термообработки.

2. Способ по.п.1, о т л и ч а ющ и -й с я тем, что, воздействие ультрафиолетовьал излучением на светочувствитель ную подложку осуществляют в течение 5-60 мин.

3. Способ по пп.1 и 2, о т л ич а ю шийся тем, что термообработка светочувствительной стеклянной подложки осуществляется путем Е ее нагрева до температуры ниже температуры размягчения стекла с изотермической выдержкой в течение 1060 мин.

1053159

Изобретение относится к вычислй- t осуществляется путем ее нагрева до тельной технике н может быть исполь- температуры киже температуры разэовано для изготовления запоминаю-.. мягчения, стекла с изотермической щих и логических элементов и уст- .выдержкой в течение 10-60 мин. ройств на тонких магнитных пленках Формирование разнокоэрцнтивных (ТИП) с использованием принципа пере- участков ТМП на светочувствительной

5 мещения плоских магнитных доменов(ПМд) . стеклянной подложке в соответствии

Известен способ форчирования раз- с предлЬженным способом осуществля

Нокоэрцитивных участков ТМП на све- ется следующим образом.. тоЧувствитЕльной стеклянной подлож- Заготовку из литнйалюмосиликатне, .Основанный на нанесении слоя 1О ного светочувствительного стекла

S ролитическом покрытии .слоем низкоОлота на стеклянную подпожку,элект- эскпонируют через фотошаблок с необходимой топологией под источ иком: н ,коэрцитивиой магнитной пленки, нане- ультрафиолетового излучения, наприсении непроводящей- маски и покры- мер под лампой ДРШ-500. Топологию

Тии незащищенных учаСтков слоем высо- 15 фотошаблона выполняют таким образом, КОКОЭРЦИтивнОй магнитной пленки $1) .. что стекло под ниэкокоэрцитинными

Недостатком этого спбсоба являет.; участками ТМП не облучается. После ся необкодимость выполнения сложных этого заготовку нагревают, наприи трум и ут иоу рав технологических мер в конвейерной печи, до темпера операций и применении дорогих мате- 2О туры ниже температуры размягчения стекла и изотермически выдерживают.

Наиболее близким техническим ре-.. Режи1ы фототермической обработки

ШЕНИЕМ К Изобретению является спо- 1 ПОдЛожки: время экспознпии 5-6О мин, со6 иэготоълеиия ферромагнитных температура нагрева 300-700 с; время пленок с цоввзаенным значением коэр- 25 изотермической выдержки 10-60 мин. и силы основанный на напы-, . Затем на поверхности подложки наленНИ ТЯП на светочувствительную - пыляют ТМП. При фототермохимической стеклянную пОДЛож«у И ПосяЕдующем Обработке подложки происходят струкивном химическом травлении .(2 ° турные изменения в стекле. В облуСЕЛЕКТИВНОМ

Однако данаид способ, позволяю- О ченных участках после тер1 оо р б аботки

Й создать разнокоэрцитивные уча- возникает однородная тонкокристалли° OT«+ r ОбдаДаЕт существениыя не-, .ческая Непрозрачная структура.Uepoдостатком. При травлении ТмП нарушает. хоэатость поверхности этих участков ся кристаллическая структура пленки, по сравнению с необлученными увелнтак как воздействие травителя на чивается (степень шероховатости засоставляющие структуры различно. В 35,висит от химического состава стекла результате коэрцитивная сила от- . и режимов обработ и екимов обработки подложек). д участков TN3 подвергнутой Таким образом,. ТМП напыляют на ель ных травлению, становится различной, и участки поверхности дл - р

° ПО Ожкн- с аз" работоспособность тонкопленочных ной степенью шероховатости, и в ремагнитных элементов снижается. . 40 эультате получают разнокоэрцитивные

Цель изобретения - повнаение на- участки пленки. дежност» формирования раэнокоэрци- Использование предложенного.спотивнюх участков ТИП путем повмаения соба формирования разнокрзрцитивных

Однородности .их «ристаллическо» . Участков ТИП на светочувствительФ

4 ной стеклянной подложке обеспечистpyn yps . стигается тем, вает по сравнению с известными спония разнокоэрцитивных участков TNG .магнитнОЙ пленки на све О т аллич еской структуры высОкОк Оэрцнному на напылении тОнкОЙ магнитной тивных участков пленки на светочувствительную тивности не пОдвергается вОздействию нием проводят кристаллизацию локальных участков светочувствительной трави тел ей; стеклянной подложки путем избиратель- повышение работоспособности маг- I ного воздействия ультрафиолетовым,из-. - нитных элементов; лучениеми последукщей термообработки..: улучшение условий труда и повыше-, .

Причем воздействие ультрафиоле-, ние уровня техники безопасности в мо ностью изготовления товым излучением на светочувствитель .связи с возможностью ную подложку осуществляют в течение I:. Изделий без фотолитографии и при5-60 мин, а термоообработка свето-, менения токсичных и легковоспламечувствительной стеклянной подложки няющихся веществ. ВНИИПИ Заказ 8882/50 Тираж 594 Подписное

Филиал ППП "Патент", r.Óæãîpoä,óë. Проектная,4