Поливинилалкенилциклопропилкарбоксилаты в качестве светочувствительной основы фотои электронорезистов
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Поливинилалкенилциклопропилкарбоксилаты общей формулы ЧСН,- CHi« E,R2 осо ;н-с-«1 сн2 сн-; где п - 500-520; R и Rg - И, CHj, в качестве светочувствительной основы фотои электронорезистов. 1(Л ел СХ) CD ю
„.SUÄÄ 1058972 A
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ
РЕСПУБЛИН
1(50 С 08 Г 8/14; G 03 C 1 68
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3391349/23-05 (22) 16.03.82, (46) 07.12.83. Бюл. Р 45 (72) A.М. Гулиев, С.С.Гасанова, Г.A.Ðàìàçàíîâ, 3.A.Ìóñèíà, Д.Д.Мозжухин, Г.К.Селиванов, В.В.Денискин, A.Т.Алыев и У.Х.Агаев (71) Институт хлорорганического синтеза AH АЗССР (53) 678.744.72"9(088.8) (56) 1. Белякова A.Ï., Боков Ю.С
Лаврищев B.Ï. и др. Светочувствительность поливинилциннамата.и его нитропроизводных.- Высокомолекулярные соединения, т.уП, 9 9, Наука, 1965, с.1637-1640.
2. Авторское свидетельство СССР
Р 732786, кл. G 03 С 1/68, 1978 (прототип).
3. Гулиев B.Ì., Лишанский И.С.
Стереоизомерные формы эфира 2-изопропенил-2-метилциклопропанкарбоновой кислоты и их радикальная реакционная способность. — Азербайджанский химический журнал, Баку, Элм, 1975, Р 1, с.51-54. (54) ПОЛИВИНИЛАЛКЕНИЛЦИКЛОПРОПИЛКАРБОКСИЛАТЫ В КАЧЕСТВЕ. СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ ОСНОВЫ ФОТО- И ЭЛЕКТРОНОРЕЗИСТОВ. (57) Поливинилалкенилциклопропилкарбоксилаты общей формулы
9<>- CHJ„В1 2
oCoCH — С вЂ” C =- Сн, С 2 где n — 500-520; R и Rg - Н, СНу, в качестве светочувствительной основы фото- и злектронорезистов.
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР
tlO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЙ:
1058972
Изобретение относится к высокомолекулярным соединениям, конкретно, к поливинилалкенилциклопропилкарбоксилатам, которые могут найти применение в качестве светочувствительного компонента Фото- и электронорезиста, используемых в. технологических процессах для изготовления интегральных схем с .субмикронным размерами элементов методами фотоэлектронолитографии.
Известно использование в качестве светочувствительных полимеров сложных эфиров на основе поливинилового спирта и коричной или нитрокоричной кислоты. Указанные полимеры являются наиболее близкими по структуре Я, Недостатками этих полимеров является низкая температура размягчения полученных материалов (около 100ОС) и отсутствие термостабилъности.
Поэтому в процессе изготовления фоторезистов при 100-120 С эФиры раз- мягчаются и подвергаются термической и термоокислительной деструкции, что приводит к значительному ухудшению.свойств фоторезистов.
Наиболее близким по технической сущности является светочувствительний полимер, представляющий собой коричный эфир полноксиэтилметакрйлата общей Формулы н, ! Б2 о (ф II
0- (H -СН- О-0-ЙТ= ОН О
2 2 где и = 3000-4000, и находящий применение в качестве основы в Фоторе-, зистах (2) .
Основными недостатками прототипа являются его сравнительно низкая фоточувствятельность (табл.2», низкая температура размягчения полученных материалов (130 С) и- сравнительно низкая термостабильность.
Поэтому в процессе изготовления фо" торезйстов при 128-130 С эфиры разО мягчиваются и подвергаются термической и термоокислнтельной деструкции, что приводит к ухудшанию свойств фоторезистов.
Целью изобретения является повышение Фоточувствительностн и увеличение термической стабильности по-, лимеров.
Поставленная цель достигается новыми соединениями - поливинил(алкенилциклопропилкарбоксилатами (ПВАЦПК) общей формулы
+й4 СМ„R1RZ
ОС{)Сн- 6- 0=Си .(H2 где и — 500-520; R< и В2 -Н, СН, Ю
Указанные полимеры могут также иапользоваться в качестве основы для электронорезистов. 1
Полимеры: получают этерификацией поливинилового спирта с хлорангидридными алкенилциклопропанкарбоновых кислот в водном растворе щелочи. В качестве хлорангидридов используют хлорангидриды 2-винил-, 2-винил-210 метил-, 2-изопропенил-, 2-изопропенил-2-метилциклопропан карбоновой кислоты. Синтез циклопропановых кислот осуществляют по известной методике (3) .
Концентрацию щелочи варьируют в пределах 0,5-1,5 моль/л. мелочь используют в виде водйого раствора.
Концентрация хлорангидридов алкенилциклопропанкарбоновых кислот (синтез осуществляют при избытке хлор- ангидрида) соответствует 1,2 моль/л раствора смеси метилэтилкетона и толуола. Температура-синтеза (-3){-8) С. .Пример. 4,4 г (0,6 г/моль) ноливинилового спирта растворяют Б
100 мл воды, добавляют раствор 20 г (0,5 г/моль) NaOH в 100 мл воды, а затем 1,80 мл метилэтилкетона, смешанного с 20 мл толуола. Реакционно ную смесь охлаждают. К охлажденному до -50Ñ раствору по каплям приливают 16,25 мл (1,2 г/моль) охлажденного хлорангидрида 2-изопропенил-2-метилциклопропан карбоновой
35 кислоты. Реакцию проводят в открытом сосуде на воздухе при перемешивании. После образования на грани. це. двух слоев продукта его отделяют, промывают водой, после сушки поgO вторно растворяют в метилэтилкетоне, осаждают в петролейном эфире и сушат при 40 С в вакуумной сушилке. ВыQ .ход полимеров составляет 80-92%.
Аналогично синтезируют другие
ПВАЦПК (и-500-520) {табл.1). Все полученные полимеры являются белыми порошками, хорошо растворяющимися в метилэтилкетоне, ацетоне.
Полученные полимеры идентифицированы методами ИК- и ПМР-спектроскопии, В ИК-спектрах этерифицированных продуктов имеются полосы поглощения в областях 1640-1650 см ", 900910. см ", 1020-1040 см, 17201730 см 1 „ характерные для валентных и деформационнных колебаний двойных связей, скелетных колебаний трехчленного цикла и карбониль.ной группы, .соответственно.
ПИР-спектры содержат резонансные сигналы для протонов двойных связей (о = 4,70-5,30 м.д.), оксимети-. леновой группы {о = 3,15-3,75 м.д.), метильных групп у двойной связи и насыщенного С атома { 8 = 1, 761058972
1,79 м.д., В = 1,.25-1,50 м.д. соответственно), цинлопропанового кольца (S = 0,5-0,76 м.д.), метиновых и метиленовых групп (8 = 1,5r
8 = 1,75 м.д.). Содержание Эфирных групп (практически количественное) в полимере определяют степенью этерификации и данными элементного .анализа.
Для сравнения фоточувствительности, температуры размягчения и. теплостойкости полимеров, полученных предлагаемь|м способом и .по прототипу в идентичных условиях изготавливают пленки. Растворителем является хлороформ.
Пленки, высушенные до постолниОго веса, облучают лампой ПРК- 2. Через определенные промежутки времени об-. лучения определяют уф-спектроскопически оптическую плотность. в обиасти 205 нм (О о ) н относят найденную величину к оптической плотности у пленок до получения (D og ). роке того, в пленках, подвергнутых облучению в течение 20 мин, определяют весовое количество растворимой фракции путем экстракции хлороформом. Данные приводятся в табл.1.
Таким образом видно, что предлагаемый пОлимерный материал обладает болЕе высокой светочувствительиостью, чем известный материал. Наличие в составе молекулы предлагаеьнх соединений свободных алкенильных групп и трехчленного цикла обеспечивают фоторезнсту на его основе более высокую чувствительность по отяошению к Уф-облучению и электронному пучку.
Для испытания термической ста бильности описанные пленки .подвергают нагреванию на воздухе в течение суток при 220 С.
Изменения в пленках характеризуют-! ся ИК=спектроскопическим и гравиметрическим методами..
В ИК-спектрах пленок из предлагаемых полимеров изменения после про-. грева отсутствуют, что свидетельст-, вует Ь термической стабильностИ полимеров, пленки сохраняют цвет после нагревания (бесцветные) и не имеют потерь в весе.
Кроме перечисленных свойств так же определяют электроночувствительные характеристики для синтезированных полимеров со значениями В4 я
Rg и при различных концентрациях в растворе циклогексанона, представленными в табл.2.
Все злектронорезисты наносят на центрифуге прч 2500 об/мнн на хромированные стеклянные подложки марки К-. 8 со слоем. хрома (толщина хрома 0„3. мкм). Толщина получаемой
10 пленки реэиета составляет 0,45 мкм и измеряется микроинтерферометром
Линника ИИИ-4. Сушку пленки прово дят в оптимальных условиях для каж-. дого резиста (80oC-20 С). . (5 . Злектронореэисты экспонируют по заданной программе электронным пучкам (плотность заряда 1 10 1 I0 4 Кл/см } на растровом электронном микроскопе ЮЯИЗИ при ускоряю° О щем напряжении 3.0 кВ ж токе пучка, 10 з А. После проявления в течение
S мин в смеси метилэтилкетон-изопропилозый спирт (ИЭК-ИПС) в весовом соотношении 1:3 подложки сушат
25.20 мин при ВО С.. Элементы с размерами 0,5 мкм воспроизводятся при хорошей четкости края.
Электроночувствительность (Q) рассчитывают по формуле я =):);„=1
5 гдеПп,,, - минимальная доза облучения, необходимая для пръ" явления аленки электроно
35 реэиста на полную глубину слбя3 - ток пучка электронову и ь - время облучения, с;
5 - облучаемая площадь, см .
4Р Результаты испытаний приведены в табл.2.
Таким образом, полученные полимеры когут найти широкое примене ние в качестве фоторезистов, харак45 теризующихся высокой светочувствительностью, термостабильностью (пленки на основе полимера устойчивее к термоокислительной деструкции).
Полученные полимеры могут также найО ти применение в качестве основы для злектронорезистов. Иожно также отметить простоту и технологичность способа получения поливинилакенилциклопропилкарбоксилатов.
1058972
Таблица 1
Растворимая
Фракция,, Ъ
Температура размягчения, 0С
10 мин
20 мин
0,35 н
0,65
0,44 и
1,5
0,63
0,42 сн3
0 г.32 н
1,7
0,66
0,46
0,37 сн
1t9
0 64
0,43 сн
0,36
1,8 сн
0,65
1 2 8
Таблица 2
« ««««
Литографические свойства
Состав HBAIJIIK
Концентрация
ПВАЦПК вес.В
Композиция
Электроночувствительнтость, Кл/см .
Фоточув-. ствительность см /Дж
Дефектность деф/см
1 5110 6
R(= Rg = Н
27,5
1,5
5.,0 10
12
14 8
0,3
3,0" 10 я ж я т н
20,2
0,5
10 а,-"и, R =сн 8
28,6
0,3
1,5 - 10
-б в, =н, вд=сн
26,8
R = Н R2 = СН9
«б
1„5 ° 10
27,2
1,0
К,. =СН R Н н сн в =н
27,3 1,5
22I 3
0,3
1,0
23,5
28,2 2,0
20,7
4,5 10
5 ° 10
1,0
Ф
13,9 3,0
R2 = сн
ВННИПН Заказ 9705/23 Тираж 494 Подписное филиал ППП "Патент", r.Óæãîðîä,óë.Ïðîåêòíàÿ,4, Коричный эфир нолиоксиэтилметакрилата (прототип) н =сн,н =и
R, =В =СН
И, =R =СН
D 205/D 205
15 мин
1,5 10
3,0 ° 10"
2,0 " 10 146 150 .
150-155
152-157
155-160