Способ получения носителей информации испарением в вакууме аморфного селена на электропроводящую подложку
Иллюстрации
Показать всеРеферат
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НОСИТЕЛЕЙ ИНФОРМАЦИИ ИСПАРЕНИЕМ В ВАКУУМЕ АМОРФНОГО СЕЛЕНА НА ЭЛЕКТРОПРОВОДЯЩУЮ ПОДЛОЖКУ, отличающийс я тем, что, с целью повышения качества изображения путем увеличения .чувствительности, ис ictpeHHe селена проводят ,при давлении 5-lO-s 8-10 ммрт . ст., температуре поД-; ложки 18 - 25°С, скорости испарения 4-12 мкм/мин и скорости движения подложки 3-16 м/мин.
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
NIIMOl
РЕСПУБЛИК (19) (И) ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОЧНРЫТИЙ
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К ABTOPCHOMY СВИДЕ ГЕЛЬСТВУ (21) 3393767/28-12 (22) 08. О l. 82 (46) 07.02,84. Бюл. Р 5 (72) Л.И. Зеленина, A.A. Постников и Д.Г.Табатадзе (71) Всесоюзный государственный ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности (53) 772.93(088.8) (56) 1, Авторское свидетельство СССР
9 345837, кл.(03 G 5/08, 1969.
3(5)) С 03 Й 5/082; 03 6 5 14 (54) (57) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НОСИТЕЛЕЙ
ИНФОРМАЦИИ ИСПАРЕНИЕМ В ВАКУУМЕ
АМОРФНОГО СЕЛЕНА HA ЭЛЕКТРОПРОВОДЯЩУЮ ПОДЛОЖКУ, о т л и ч а ю щ и и с я тем,, что,,с целью повышения ка" чества изображения путем увеличения .чувствительности, испарение селена проводят прн давлении 5"10-з
8 .10 мм рт ст, температуре йод- ложки 18 - 25 С, скорости испарения
4 - 12 мкм/мин и скорости движения подложки 3-16 м/мин.
Изобретение относится к способу получения неорганических фотопроводниковых слоев, а именно к способу получения инжекционного слоя аморфного селена, применяемого для повышения электрофотографической чувствительности фототермопластических (ФТП) пленок.
Известен способ пелучения нрсителей информации испарением в вакууме аморфного селеиа на электропроводяющую подложку Г13 °
Однако на носителях, полученных известным способом, нельзя получать изображения высокого качества»
Цель изобретения - повышение качества изображения путем увеличения чувствительности носителей.
Поставленная цель достигается тем, что согласно способу получения носителей информации испарением в вакууме аморфного селена на электропроводящую подложку испарение селена проводят при давлении 5 *10 —
8 10 мм рт. ст., температуре подложки 18 - 25 С, скорости испарения 4-12 мкм/мин и скорости движения подложки 3 — 16 м/мин.
П р и и е р 1. Термическим испарением в вакууме 5 ° 10 > им рт. ст. наносят слой аморфного селена со скоростью 4 мкм/мин на рулонную полиэтилентерефталатную подложку с проводящим слоем никеля, ско" рость движения подложки 16 и/ мин, при этом толщина напыляемого слоя 35 селена 0,03 мкм. Сверху из раствора в толуоле наносят фототермопластическую композицию, содержащую поли8-винилкарбазол и сополимер стирола с бутадиеном в соотношении 1: 1. 40
Толщина фототермопластического слоя 2 мкм. Материал высушивают в вакуумном шкафу прн комнатной температуре в течение 2 ч.
Пример 2. Образец фотатермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 1, с той лишь разницей, что давление остаточного газа при получении слоя селена составляет 1 ° 10 5 мм рт. ст., скорость движения подложки 5 м/мин, толщина слоя селена 0,12 мкм.
Пример 3. Образец фототермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 2, с той лишь разницей, что скорость движения подложки составляет 7 и/мин, Пример 4. Термическим испарением в вакууме 8 10- мм рт.ст. наносится слой аморфного селена со скоростью 12 мкм/мин на рулонную полиэтилентерефталонную подложку с проводящим слоем хрома. Скорость движения подложки 12 м/мин, температура подложки 25 С, толщина наносимого слоя селена 0,12 мкм.
Сверху иэ раствора в толуоле наносят фототермопластическую композицию, содержащую поли-М-винилкарбазол и сополимер спирола с бутадиеном в соотношении l:1. Толщина фототермопластической композиции составляет 2 мкм.
Материал высушивают в вакуумном шкафу при комнатной температуре в течение 2 ч. . Пример 5. Образец фототермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 3, с той лишь разницей, что толщина слоя селена составляет 0,2 мкм, а скорость движения подложки — б м/мин. ..Пример б. Образец фототермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 5, с той лишь разницей, что материалом проводящего слоя является титан, скорость нанесения слоя селена
10 мкм/мин, скорость движения подложки 7 м/мин, температура подложки 25 С.
Пример 7. Образец фототермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 5, с тсй лишь разницей, что толщина слоя селена составляет 0,50 мкм, скорость нанесения слоя 12 мкм/мин, сксрость . движения подложки 3 м/мин, температура подложки 25 С.
Результаты имерений по примерам 1 — 7 сведены в таблицу.
1071993!
1
1 х и е
I
1нЪ
Ю (Ч н — — х
1
1 оцхо4
65 О н хин эцоои хохово
0 е хи х
О\ О\ с с
О О
Ю О
Ol Ch с с
О О
1О Ю
0 Ch Ch с с, с
О О О
Ю Ю
СЧ <Ч с
О О
N !Ч с с
О О
1О
N с
<Ч с
О. с
In
C) ч
Ill в иь
1 О О в н н
III О
Г 4
Ю
Г.4 ч н ю4 OQ
C0 lA
Ч N! с- <Ч
О N ч
eL х v
Х с
8oxz
z5qg
Сх) 4Ч
О Ч с с
О Ю
1 е
9 х х х о е х
Б
М дР
Е с
И ж
N н и ео о х х д
М Ц ц э е н х я
ИН 1И
OO I Е ххах! Е н;х х
pwх1Ф нг
О9ЮХИ аахаои! нцинх хоэимЕ Н Р III
1:ОХ Э:С! !!! б «0
I I
IC I
he
Х I II!WC!
Е! ОуО
1 а
I V.
О\ 9 ° 1 с! ewй!. и! хИo н н — — — — -.
Э 1 I
1 9 1 1 о!а хи! а! 9 оо
I Их! а ц с
Х! 9 ОХ I о нных а
1Ахх!
9 I ÍÌÕ х! ихм
el О9ОХ а! акции!
Ia l ОХЦЫ!
Х!!! О I
I UagZ I
М 1
Х l К 1
Гч1AХ .OI НХ -Х! Ц! O99Х
O I ОИХ х! аеэ,! х! охал;! а О О О О О
О О О О О О
N N ч н СЧ СЧ Д с с с с с
О О Ю О Ю
« Ч Е З р и О
1071993
Составитель A Íîcûpåâà
Редактор О,Бугир Техред C.ÌHãóíoâà Корректор Г.Решетник
Заказ 120/38 Тираж 464 Подписное
ВНИИПИ Расударственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035р Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП Патент, г.Ужгород, ул.Проектная, 4
Как видно из таблицы предлагаемый способ получения инжекционных селеновых слоев на рулоннай 1 одложке обеспечивает повышение чустви-1 тельности пленки по сравнению с
1 известным способом в 5- 13 раз и сохраняемость в 3,5 раза, а следовательно, повышается качество изображения, получаемого на данной пленке.