Способ изготовления запоминающих матриц на цилиндрических магнитных пленках

Способ изготовления запоминающих матриц на цилиндрических магнитных пленках

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЛОМИНАЩИХ .МАТРИЦ НА ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ МАГНИТНЫХ ПЛЕНКАХ, основанный на плетении числовых и киперных обмоток на технологических струнах петум пропус сания провода вместе с ограничитальной прокладкой через зев, регулировании зева, извлечении ограничительной прокладки, заливке матриц , компаундом и извлечении технологичес ких струн, отличающийся тем, что, с целью повьшения надежности изготовления запоминающих матриц путем исключения обрывов технологических струн и числовых обмоток, плетение числовых и киперных обмоток осуществляют с противоположных сторон технологических струн, устанавливают ограничительную прокладку в зеве при плетении первого полувитка каждой киперисй обмотки в положение, аналогичное положению при плетении последнего полувитка каждой числовой обмотки, и осуществляют плетение киперных и числовых обмоток в проти (Л воположных направлениях по всему полю запоминающей матрицы. со ГС ел О5 сд

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНЯТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ к двторСкомм СвиДкткльСтвм (21) 3556329/18-24 (22) 23.02.83. (46) 15,05.84. Бюл. 11 18 (72) Н.В.Косинов и В.М.Кузьменко (53) 681.327.66 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

У 474842, кл. С 11 С 5/02, 1973.

2, Авторское свидетельство СССР

9 566267, кл. С 11 С 11/14 1975 (прототип). (54) (57) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАПОМИНАЮЩИХ МАТРИЦ НА ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ

МАГНИТНЫХ ПЛЕНКАХ, основанный на плетении числовых и киперных обмоток на технологических струнах петум пропускания провода вместе с ограни". . чительной прокладкой через зев, регулировании зева, извлечении ограни„„Я0„„1О92565 А

g(5g С 11 С 11/14 чительной прокладки, заливке матриц компаундом и извлечении технологичес-. ких струн, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности изготовления запоминающих матриц путем исключения обрывов технологических струн и числовых обмоток, плетение числовых и киперных обмоток осуществляют с противоположных сторон технологических струн, устанавливают ограничительную прокладку в зеве при плетении первого полувитка каждой кипернсй обмотки в положение, аналогичное положению при плетении по-следнего полувитка каждой числовой обмотки, и осуществляют плетение киперных и числовых обмоток в противоположных направлениях l10 всему полю запоминающей матрицы.

l092565

Изобретение относится к вычисли" тельной технике и может быть использовано при изготовлении матриц памяти на цилиндрических магнитньгх пленках (ЦИП).

Известен способ изготовления запоминающих матриц на ЦИП, основанный на натяжении технологических струн, образовании зева между ними, прокла1О дывании в зев проводников числовых и кйпурных обмоток поц углом к технологическим струнам, закрывании зева, последовательном формировании струнами проводника, перемещении сфорf мованного проводника к числовым или киперньм обмоткам ппи закрытом зеве. перемещении технологических струн, отдалении обмоток от зоны плетения,, заливке компаундом и извлечении технологических струн 5 1 3.

Формовку проложенного в зев прово-. да осуществляют струнами в плоскбсти их нейтрального положения. При этом сходящиеся в одну плоскость струны

« зева зажимают проводники числовых и киперных обмоток, препятствуют свободному перемещению провода в направлении, перпендикулярном струнам. 3 результате, увеличение длины провода. требующееся для придания ему эигэаго- .>б образной формы при формовке, сопровождается растяжением и обрывами проводов.

Наиболее близким к предлагаемому является способ изготовления запоминаюшдх матриц на 1фШ, основанный на плетении числовых и киперных обмоток на технологических струнах путем пропускания проводов вместе с ограни- gg чительной прокладкой через зев, абра". зованный взаимным смещением технологических струн, регулировании зева и извлечении ограничительной прокладки из технологических струн P2).

Недостаток этого способа заключается в том, что начало плетения киперных и числовых обмоток производят с одной стороны технологических струн IIQBTolpj QOJIQBHH формирования р всех четных,и нечетных полувитков числовых и киперных обмоток оказыва-, ются одинаковыми, при этом на четные и нечетные струны технологической основы витки обмоток ока55 зывают давление в одном по.перечном направлении. При этом, если на четные струны витки обмоток оказывают давление по нормали к полотну вверх„ то на нечетные струны цавление производится по нормали к полотну вниз. Кроме того, такое же действие оказывает и ограничительная прокладка на четные и нечетные струны, которую, длч улучшения охвата проводом крайних струн, необходимо располагать по воэможности ближе к вершине у ла зева. Давление на четные и нечетные струны в поперечном направлении ограничительной прокладкой и большим количеством полувитков киперных и числовых обмоток приводит к смещению четных и нечетных струн в противоположные стороны от осевой линии матрицы, нарушению геометричес сНх размеров ма1рицы чГО B дальнеи шем эа рудняет извлечение технологических струн, приводит к их обрывам и обрывам проводников числовых обмоток, Все это снижает качество и надежность изготовления матриц.

Цель изобретения - повышение надежности изготовления запоминающих матриц путем исключения обрывов технологических струн и числовых обмоток.

Поставленная цель достигается те 1 что "огласно способу изготовления эапсм:;нающих матриц на ЦМП„ основанному на плетении числовых и киперных обмоток на технологических струнах путем пропускания провода вместе с ограничительной прокладкой через зев, регулировании зева, извлечении ограничительной прокладки заливке матриц компаундом и извлечении технологических струн, плетение числовых и киперных обмоток осуществляют с противоположных сторон технологических струи, устанавливают огра ничительную прокладку в зеве при плетении первого полувитка каждой киперной обмотки в положение, аналогичное положению при плетении последнего полувитка каждой числовой обмотки и осуществляют плетение киперных и числовых обмоток в протиповолоэых направлениях по всему полю запоминающей матрицл.1.

Плетение обмоток запоминающих матриц осуществляют на любом приспособлении, специальном устроистве или ткацком станке, имеющем эевообразующий механизм.

На фиr,1 показана операция плетения киперных -и числовых обмоток с противоположных (TopoH технологи

2565 4 полувитков числовых обмоток 3. При этом ограничительная прокладка 4 вместе с внтками киперных обмоток оказывает давление на четные струны

2 по нормали к полотну вниз а на нечетные струны 1 — по нормали к полотну вверх. компенсируя тем самым давление витков соседней числовой обмотки, Это исключает смещение чет-! б ных и нечетных технологических струн в противоположные стороны от осевой линии, сохраняет геометрические pas» меры матрицы. улучшает извлечение технологических струн. исключает их !

5 обрывы и обрывы витков числовых обмоток.

Противоположное направление плете» ния киперных обмоток по отношению к числовым обмоткам сохраняют по всему полю матрицы. Затем производят заливку матриц компаундом с последующим извлечением технологических струн.

Таким образом, осуществление начала плетения киперных обмоток и числовых обмоток с противоположных сторон технологических струн, расположение ограничительной прокладки . в зеве при плетении каждых первых полувитков киперных обмоток в таком

30 же положении, как и при плетении каждых последних полувитков числовых обмоток, обеспечение направления плетения киперных обмоток противопо-, ложным по отношению к направлению

35 плетения числовых обмоток по всему полю матрицы позволяет повысить качество и надежность изготовления матриц на ЦМП, уменьшить отход в брак матриц на всех стадиях изготовщ0 ления от плетения полотен, извлечения технологических струн до сборки мо;,. дулей памяти эа счет исключения несоответствия геометрических размеров, обрыьов струн, обрывов витков число45 вых обмоток и уменьшения числа заменяемых стержней с ЦМП вследствие уменьшения их деформации.

Заказ 3262/36

Подписное

ВНИИ!И

Тираж 575

3 109 ческих струн; на фиг.2 — расположение числовых и киперных обмоток матрицы на технологических струнах.

Изготовление запоминающих матриц на ЦМП в соответствии с предложенным способом осуществляют следующим образом.

В образованный технологическими струнами 1 и 2 зев вводят с одной из сторон струн провод числовой обмотки 3 вместе с ограничительной прокладкой 4 и ориентируют его no линии .формовки. При изменении зева струны и 2, зажимая ограничительн ю прокладку 4, составляют провод

3 и в свободном состоянии. При извлечении ограничительной прокладки

4 в сторону свободного конца провода 3 технологические струны 1 и 2 сходят с кромки прокладки 4 и пооизводят формовку провода, т.е. придание ему зигзагообразной формы. Ограничительная прокладка 4 оказывает давление на четные 2 и нечетные 1. струны, удерживая в открытом зеве участки струн 1 и 2 от вершины зева между ними до мест касания с прокладкой 4, Такое же давление на четные струны 2по нормали к полотну вверх, а на нечетные — по нормали к полотну вниз, оказывают витки сформованного провода 3. После плетения числовой обмотки 3 производят плетение киперной обмотки 5, при этом начало плетения киперной обмотки 5 производят с противоположной стороны технологических струн. Ограничительную прокладку 4 при плетении первого полувитка киперной обмотки 5 располагают в зеве в таком же положении как и при плетении последнего полувитка числовой обмотки 3, т.е. конец ограничительной прокладки 4 при плетении каждого первого полувитка киперной обмотки 5 располагают на той же стороне технологических струн

1 и 2, что и при плетении последних

\1 tt

Филиал ППП Патент

r Ужгород, ул. Проектная, 4