Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов

Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

1. СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРОБЕЛОВ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ НА ОСНО-, BE ПОЛИАКРИПАТОВ, включающий обработку их водным раствором натриевой соли угольной или ортофосфорной кислоты , отличающийся тем, что, с целью повышения репррдукщюнных и печатных свойств формы, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицательного электрода от 900 до 300 мВ при 20-25°С. 2. Способ по п. 1,отличающ и и с я тем, что натриевая соль содержится в количестве 0,3-1,5%. ko

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

COUHIIM

РЕСПУБЛИН

ОВ (11) SU

acso G 03 F 7 0

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ HOMHTET СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPbIYIO

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

%3F

,, ;.,)3 д ИКА (21) 3553628/18-10 (22) 09.02.83 (46) 23.09.84,Бюл. В 35 (72) В.М.Афанасов, Е.Н.Болотский, В.А.Внльчинский, М.А.Заугольников, А.Ф.Козлов, С.И.Тевелева, Б.С.Фридман, П.У.Гамер, П.А.Кирпичников, А.Г.Лиакумович и И.М.Магдеев (71) Курский завод "Счетмаш" и Казанский химико-технологический институт им. С.М.Кирова (53) 777(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

В 452800, кл. С 03 F 7/10, 1971.

2. Авторское свидетельство СССР

9 467313, кл. G 03 F 7/10, 1973 (прототип). (54) (57) 1. СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРОБЕЛОВ

ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ НА ОСНОBE ПОЛИАКРИПАТОВ, включающий обработку их водным раствором натриевой соли угольной или ортофосфорной кислоты, отличающийся тем, что, с целью повышения репродукционных и печатных свойств формы, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицатель" ного электрода от 900 до 300 мВ при

20-25 С.

2. Способ по и. 1, отличающийся тем, что натриевая соль содержится в количестве 0,3-1,5Х. ф

011

1 1115

Изобретение относится к технологии изготовления фотополимерных печатных форм (ФПФ) и может быть использовано в полиграфической и приборостроительной промышленности. 5

Известен способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм смесью воды и ацетона (1).

Однако этот растворитель при очист. ке пробелов на ФПФ из полиакрилатов 10 вызывает повышенное набухание печатающих элементов.

Наиболее близким по технической сущности к предложенному является способ очистки пробелов фотополимер- 1 ных печатных форм на основе полиакрилатов, заключающийся в том, что пробелы обрабатывают 0,5-2,5%-ный водным раствором натрневой соли уголь ной или фосфорной кислоты при 50 — 2O

70 С (2).

Однако известный способ .очистки характеризуется получением печатных форм с низкими репродукционными и печатными свойствами в связи с тем, 25 что использование высокой температуры при очистке пробелов приводит к появлению внутренних напряжений и трещин в заполимеризовавшейся композиции и графическому искажению узких пробелов, а также к пилообразному профилю печатающих элементов.

Целью изобретения является повыше-, ние репродукционных и печатных свойств формы. 35

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки пробелов фотопопимерных печатных форм на основе полиакрилатов, включающему обработку их водным раствором натриевой О соли угольной или ортофосфорной кислоты, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицательного электрода от 900 до 4>

300 мВ при 20-25 С, Натриевую соль используют в концентрации 0,3-1,5%.

Снижение температуры в предложенном способе очистки пробелов фотопо- 50 лимерного слоя до 20-25 С происходит благодаря использованию водного раствора натриевой соли угольной или фосфорной кислоты, приготовлейного на воде, предварительно подвергнутой 55 электрообработке. Присутствие элект.роактивированной воды в растворе улучшает его физико-химические свойства, в частности смачиваемость состава.

Пример 1. Сухой пленочный фоторезист наносят на заготовки печатных плат при помощи валковой машины ламинатора, далее экспонируют со стороны негатива в вакуумной копировальной раме люмнносцентными лампами

ЛУФ-80 в течение 1-2 мин. Для приготовления водного раствора для очистки пробелов фотополимерного слоя используют воду из зоны отрицательного электрода диафрагменного электролизера с потенциалом — 900 мВ.

Приготовление растворов необходимо вести в течение времени стадии медленной электрохимической релаксации электроактивированной воды до редокс-потенциала от -900 мВ до

-300 мВ, которое составляет около

8 ч. Обработку ведут при 20-25 С в течение 1-2 мин. Затем заготовки промывают в дистиллированной воде и сушат теплым воздухом при 40-50 С в тео чение 1 мин.

П р и и е р 2. Выполняют аналогично примеру 1, но используют 0,31,5 -ный водный раствор натриевой соли фосфорной кислоты Na P04.

Составы образцов водных растворов я очистки пробелов приведены в табл. 1.

Определение репродукционных и печатно-технических свойств ФПФ проводят по следующим показателям: проявляемость фоторезиста; графическая точность передачи. изображения.

Проявляемость фоторезиста оцени- вают временем, при котором произошло полное растворение неэкспонированного слоя при неповрежденном экспонированном слое. Для этого используют следующие характеристики: допустимый интервал проявления л

С маК драят i устойчивость фаторезиста к раство рам (проявителям) л э сп и

"опт и где „- время проявления первых следов разрушения экспог нированного слоя; ащт — время полного разрушения неэкспонированных. участков слоя

" ксп — время полного разрушения экспонированных участков слоя.

3 1115011 - 4

Графическую точность передачи Изменение размеров (50 мкм и изображения оценивают по следующим 200 мкм) штрихов определяется при характеристикам: изменение размеров, - одинаковой толщине (30 мкм) светоштрихов в процессе проявления; неров- чувствительного слоя. Ширину штриха ность края. определяют как расстояние между

Каждым составом обрабатывают по средними линиями границ элементов. семь тест-объектов и вычисляют харак- Неровность края оценивают как потеристики как среднеарифметическое ловину разности между самой большой значение. и самой маленькой шириной штриха в

Изменение размеров штрихов оцени- 10 мкм и в Х относительно ширины штриха вают с помощью абсолютного искажения на негативе (Ы, Ж).. штриха (ЬЬ в мкм) и относительного Результаты испытаний приведены искажения, рассчитываемого по форму- в табл. 2. ле Такйм образом, предложенный спо ффс.

15 соб очистки пробелов по сравнению с ьЪ„,,,известным обеспечивает увеличение

b проявляемости фоторезиста в 1,82,0 раза, повышение графической точгде Ь вЂ” ширина штриха на негативе; ности передачи изображения в два pahb — разность ширины штриха на 20 за с уменьшением неравномерности негативе и копии. края с 6 — 10 до 3 — 5X.

Таблица 1

Натриевая соль угольной кислоты, вес.X

Натриевая соль фосфорной кислоты, вес. Ж

Растворитель

По предга- По иэвестемому спо- ному способу собу.

По предла- По иэвестемому спо- ному способу собу

Электроактивированная вода с потенциалом от -300 до

-900 мВ

0,3-1,5

0,3-1,5

0,5-2,5

0,5-2,3

Вода

Таблица 2

Натриевая соль угольной кислоты, вес.Х триевая соль фосфорной слоты, весЛ, Технологические характеристики способа очистки пробелов печатных форм

По предлагаемому способу (при 20-25 С) По извест ному способу. (при 5070 С) По предла-, По известногаемому . му способу способу (при 50-. 70 С) (п1зи 2025 С) Устойчивость фотореэистора P й

45-50

80-90

45-50

80-90

Неровность края элементов копии (Ь1 „,Ж) 8-10

6-10 3,5-4

3-5

Изменение размеров элементов копии. (ото ") 1 3-20 6-10

t2-22

5-10