Устройство для нанесения слоя фоторезиста

Устройство для нанесения слоя фоторезиста

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ СЛОЯ ФОТОРЕЗИСТА, содержащее корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположенный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста , элемент дозированной подачи фоторезиста , соединенный с одним концом подвижного щтока, и предметный столик, установленный на роторе центрифуги, отличающееся тем, что, с целью улучшения эксплуатационных возможностей и повыщения равномерности нанесения слоя фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста снабжен подпружиненной подвеской с отверстиями и выполнен в виде заслонки с отверстиями, в корпусе выполнен наклонный направляющий паз, а в днище резервуара - дополнительные отверстия, причем заслонка расположена между днищем резервуара и подпружиненной подвеской с возможностью (С перемещения.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК зов Н 01 L 2100

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ABTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3593223 I18-21 (22) 26.04.83 (46) 23.09.84. Бюл. № 35 (72) Э. К. Юсуф-Заде (71) Научно-производственное объединение космических исследований при АН Азербайджанской ССР (53) 621.396.6.049.75.002 (088.8) (56) 1. Курносов А. Н., Юрин В. В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М., «Высшая школа», 1979, с. 90.

2. Авторское свидетельство СССР № 570870, кл. G 03 С 1/74, 1975. (54) (57) УСТРОЛСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ СЛОЯ ФОТОРЕЗИСТА, содержащее корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположенный в корпусе ре„„SU„„1115137 A зервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним концом подвижного штока, и предметный столик, установ- „ ленный на роторе центрифуги, отличающееся тем, что, с целью улучшения эксплуатационных возможностей и повышения равномерности нанесения слоя фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста снабжен подпружиненной подвеской с отверстиями и выполнен в виде заслонки с отверстиями, в корпусе выполнен наклонный направляющий паз, а в днище резервуара — дополнительные отверстия, причем заслонка расположена между днищем резервуара и подпружиненной подвеской с возможностью перемещения.

1115137 концом подвижного штока, и предметный столик, установленный на роторе центрифуги, элемент дозированной подачи фоторезиста снабжен подпружиненной подвеской с отверстиями и выполнен в виде заслонки с отверстиями, в корпусе выполнен наклонный направляющий паз, а в днище резервуара— дополнительные отверстия, причем заслонка расположена между днищем резервуара и подпружиненной подвеской с возможностью перемещения.

На фиг. 1 изображено устройство в момент выпуска фоторезиста; на фиг 2

Изобретение относится к радиоэлектронике, а именно к устройствам фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов, Известно устройство для найесения фоторезиста, включающее дозатор, центрифугу,. содержащую держатель в виде вакуумного присоса, стол и скафандр (1).

Недостатками устройства являются нанесение фоторезиста в одной точке в центре пластины и образование в результате этого 10 краевого утолщения при центрифугировании.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности является устройство для нанесения слоя фоторезиста, содержащее корпус, установленный соосно с ротором 1 центрифуги, расположенный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним концом подвижного штока, и предметный столик, уста- 0 новленный на роторе центрифуги (2).

Недостатком известного устройства является то, что дозировка фоторезиста осуществляется по принципу работы шприца и при этом количество фоторезиста, нано- симого на пластину, зависит от квалификации оператора. Нанесение фоторезиста в центре пластины не обеспечивает его равномерное распределение при центрифугировании.

Цель изобретения — улучшение эксплуа- 30 тационных возможностей и повышение равномерности нанесения слоя фоторезиста.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для нанесения слоя фоторезиста, содержащем корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположен- З ный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним разрез А-А на фиг. 1; на фиг. 3 — разрез

Б-Б на фиг. 1; на фиг. 4 — устройство перед выходом в нерабочее положение (привод центрифуги и вакуумный присос пластины условно не показаны).

Устройство состоит из корпуса 1 с приливом 2, в котором под углом к оси отверстия выполнен направляющий паз 3 резервуара 4 с винтовой крышкой 5 с ручкой 6.

В днище резервуара ввинчиваются вин- ты 7, свободно проходящие через подвеску 8.

Между подвеской и днищем резервуара расположена заслонка 9. Пружины 10 распирают винты и подвеску. Заслонка соединена со штоком 1, заканчивающимся кулачком 12. Пластина 13 устанавливается на предметный столик 14. В днище резервуара, заслонке и подвеске выполнены отверстия, в совокупности образующие объемный дозатор.

Устройство работает следующим образом.

В начале смены в резервуар 4 заливается фоторезист и резервуар закрывается крышкой 5, при этом фоторезист затекает в отверстия в днище резервуара.

На предметный столик 14 устанавливается пластина 13, и включается вакуумный присос. С помощью ручки 6 резервуар устанавливается в корпусе 1 так, что кулачок 12 входит в направляющий паз 3 на приливе 2.

При дальнейшем вводе резервуара заслонка 9 с помощью штока 11 перемещается и ее отверстия совмещаются с отверстиями на подвеске 8. При этом происходит выпуск фоторезиста. В конечном положении концевой включатель 15 срабатывает и осуществляется привод двигателя предметного столика 14.

По истечении установленного времени цикл завершается. Резервуар снимается, отключается вакуумный присос, пластина с нанесенным слоем фоторезиста снимается.

Цикл нанесения слоя фоторезиста повторяется.

Прижим подвески к заслонке и днищу резервуара через пружину 10 на винте 7 обеспечивает равномерный зазор и скользящую посадКу заслонки.

Изобретение позволяет рационально использовать фоторезист, обеспечить равномерность его нанесения путем автоматизации дозирования, повысить производительность труда за счет совмещения операции дози1 ровки и нанесения фоторезиста и культуру производства.

1115137

@U2. ñ1

Редактор О. Юрковецкая Заказ бббб 39

Составитель Л. Михайлова

Техред И. Верес Корректор Л. Пилипенко

Тираж 682 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий ! 13035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4