Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания

Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЗКОПОЛОСНОГО АБСОРБЦИОННОГО ФИЛЬТРА ПРОПУСКАНИЯ, включанлций формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучением в охлажденном до температуры жидкого гелия растворе, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности изготовления фильтров с. заданным сложным профилем пропускания, фотохромное вещество растворяют в растворителе , образующем стекло при охлажде:НИИ раствора до ;рабочей температуры фильтра.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСРУБЛИН (! 9) (r I) (sr)4 С 02 В

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

Il0 ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТ

К ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ ъ (21) 2912801/18-10 (22) 06.05.80 (46) 15.09.85. Бюл. Р 34 . (72) Л.А.Ребане, А.А.Гороховский и Я.В.Кикас (71) Институт физики АН ЭССР (53) 535.6 (088.8) (56) 1.Гороховский А.А. и др. Письма в ЖЭТФ, т.20, вып. 7, с. 474-479, 1974. (54)(57) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЗКОПОЛОСНОГО АБСОРБЦИОННОГО ФИЛЬТРА

ПРОПУСКАНИЯ, включающий формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучением в охлажденном до температуры жидкого гелия растворе, о т1 личающийся тем, что, с целью обеспечения. возможности изготовления фильтров с заданным сложным профилем пропускания, фотохромное вещество растворяют в растворителе, образующем стекло при охлажде;:нии .раствора до:рабочей температуры фильтра.

Составитель M.Çåìëÿíèöûí

Техред М. Гергель

Корректор А.Зимокосов

Редактор П.Горькова

Заказ 6397/2 . Тираж 526

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по Делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб.; д.4/5

Подписное филиал ППП "Патент", r.Óæãoðoä, ул.Проектная,4

1 11353

Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к технологии изготовления фильтров пропускания. которые могут быть применены в системах лазерной связи 5 и локации.

Известен способ формирования узких провалов в спектрах поглощения путем облучения монохроматическим светом твердого поликристаллического раствора фотохромного вещества, охлажденного frо температуры жидкого гелия. Провал в спектре поглощения возникает благодаря селективному высвечиванию из всей неоднородно 15 уширенной спектральной полосы примесных молекул, частота чисто электронного перехода которых попадает в резонанс с лазерным излучением и в которых индуцируется фотохромная 20 трансформация (1) .

У.;азанный способ однако не может быть применен для изготовления узкополосных абсорбционных фильтров пропускания со сложным заданным профи- 25 лем пропускания, так как спектры поглощения таких систем состоят из небольшого числа узких (менее О, 1 нм) линий.

Целью изобретения является обес- 3п печение возможности изготовления фильтров с заданным сложным профилем пропускания.

Поставленная цель достигается тем, что в способе изготовления узко- полосного абсорбционного фильтра пропускания, включающем формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным 4б облучением в охлажденном до темпера-. турЫ жидкого гелия растворе, растворяют фотохромное вещество в растворителе, образующем стекло при охлаждении раствора до рабочей температуры фильтра.

Для изготовления фильтра подбирают фотохромное вещество и растворитель, образующий стекло при охлажде- нии, так, чтобы полоса чистоэлектронного поглощения примеси перекрывала заданную полосу пропускания фильтра °

Приготовленный раствор помещают в плоскую кювету толщиной 1-10 мм, охлаждают до рабочей температуры фильтра 2-5 К и облучают лазером, плавно сканируя длину волны лазера, или на дискретном множестве частот до формирования необходимого профиля пропускания.

Пример изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания. Насыщенный раство Н -тетра4-трет-бутилфталоцианина в смеси изобутиловый спирт с эфиром в соотношении 2:5 по объему (концентрация примеси 10 моль/л) помещают в плоскую кювету толщиной 1-10 мм и охлаждают до 2-5 К. Облучение кюветы оксазиновым лазером на длинах волн

694,2 нм, 696,2 нм и 699 нм (плотность дозы 10 "Дж.см ) приводит к просветлению кюветы с раствором на этих частотах, т.е. образованию трехполосного абсорбционного фильтра пропускания. Спектральная ширина отдельных полос пропускания 5l10 Э нм.

Предлагаемый способ позволяет изготовлять фильтры пропускания со сложным заданным профилем пропускания, которые по спектральному разрешению превышают лучшие интерференционные фильтры и в отличие от последних позволяют работать в неколлимированных световых пучках.