Оснастка для изготовления вакуумно-пленочных литейных форм

Оснастка для изготовления вакуумно-пленочных литейных форм

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОСНАСТКА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВАКУУМНО-ПЛЕНОЧНЫХ ЛИТЕЙНЫХ ФОРМ, содержащая вакуумную подмодельную плиту, модель, концентраторы образования складок пленки, расположенные на модели, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества форм за счет устранения складе:: пленки на рабочей поверхности формы, концентраторы установлены на подмодельной вокруг модели так, что прямые, соединяющие точки расположения концентраторов, находятся вне проекции модели на подмодельную плиту. ч 00 ел со Фиг.Г

(21) 3712412/22-02 (22) 21.03.84 (46) 15.09.85. Бюл. У 34 (72) М.Д. Галитовский, В.P. Закрочимский, А.Н. Ильин, Н.С. Ильин, А.Г. Мирошниченко, В.Н. Мирошниченко и В.P. Снежной (71) Научно-исследовательский институт специальных способов литья (53) 621.744.3(088.8) (56) Патент Японии Ф 55-36019, кл. В 22 С 9/02, опубл. 1980.

Авторское свидетельство СССР

Р 1016043, кл. В 22 С 9/02, 1982. (54)(57) ОСНАСТКА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

ВАКУУМНО-ПЛЕНОЧНЫХ ЛИТЕЙНЫХ ФОРМ, содержащая вакуумную подмодельную плиту, модель, концентраторы образования складок пленки, расположенные на модели, о т л и ч а ю— щ а я с я тем, что, с целью повышения качества форм за счет устранения складс . пленки на рабочей поверхности формы, концентраторы установ— лены на подмодельной плите вокруг модели так, что прямые, соединяющие точки расположения концентраторов, находятся вне проекции модели на подмодельную плиту.

Составитель А.Юсуфович

Редактор Т.Парфенова Техред А.Бабинец Корректор R. Синицкая

Тираж 747 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 5587/10

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к литейному производству, а именно к. конструкциям литейной оснастки для получения вакуумно-пленочных литейных форм.

Цель изобретения — улучшение качества форм за счет устранения складок пленки на рабочей поверхности формы.

На фиг. 1 изображена оснастка для получения вакуумно-пленочной литейной формы, общий вид, в разрезе, на фиг. 2 — то же, вид в плане.

Предлагаемая оснастка содержит вакуумную подмодельную плиту 1, модели 2, стояк 3, концентраторы

4 образования складок, пленку 5, складки 6.

На вакуумную подмодельную плиту 1 установлены модели 2, стояк 3, концентраторы 4 образования. складок.

Нагретой до оптимальной пластичности пленкой 5 покрывают подмодельную плиту 1, установленные на ней модели 2, стояк 3, концентраторы 4 образования складок. Под действием вакуума пленка 5 облегает укаэанные элементы оснастки. При этом между

78531 г концентраторами 4 образования складок и стояком 3, имеющими высоту,. большую высоты моделей (стояк 3 является одновременно .и концентрато5 ром образования складок) образуются складки 6 полимерной пленки 5, как .между наиболее высокими частями оснастки.

Взаимное расположение концентратов 4 образования складок между собой и стояком 3 позволяет получать складки, не проходящие через поверхность моделей. В вакуумных полуформах изготовленные в дальнейшем

IS рабочие гнезда получаются без искажений их поверхностей, что соответственно дает воэможность в собранных вакуумных формах получать отливки без нарушения их геометрии

20 и рельефа.

Применение предлагаемого устройства для изготовления вакуумных форм позволяет улучшить качество и раэgS мерную точность отливки, снизить брак по искажению геометрии отливки, уменьшить затраты на механическую обработку.