Способ получения инжекционных слоев

Способ получения инжекционных слоев

Реферат

Способ получения инжекционных слоев путем термического испарения в вакууме фотопроводника на нагретую подложку с использованием облучения мощностью 10⁴ - 10⁶ Вт при скорости конденсации пара 10³ - 10⁸ нм/с, отличающийся тем, что, с целью повышения термостабильности, темнового электрического сопротивления, чувствительности к видимой области спектра и светопропускания слоев, фотопроводник испаряют на подложку, нагретую до 25 - 80^oC при длительности импульса облучения 10^-8 - 10^-6 с.