Устройство для питания гальванических ванн импульсно- колебательным током

Устройство для питания гальванических ванн импульсно- колебательным током

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

А (19) (И) (504 C 25 Р 21 12

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

СВ,|)ù .ъ .(ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТ0РСН0МУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ БИО f c

Вии4 (21) 3799431/22-02 (22) 05.10.84 (46) 15.04.86. Бюл, У 14 (71) Кишиневский политехнический институт им. С.Лазо (72) И.А.Гроза, А.И.Крамаренко, А.И.Ангел, А.С.Парсаданян, А.Г.Карча, .В.К.Спыну, А.Г.Силенко и В.А.Недзельский (53) 621.357.77(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

9 1060710, кл. С 25 D 21/12, 1983.

Авторское свидетельство СССР

11 1068549, кл. С 25 Э 21/12, 1983. (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПИТАНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ВАНН ИМПУЛЬСНО-КОЛЕБАТЕЛЪHbIM ТОКОМ с регулируемыми частотой, амплитудой и скважностью, содержащее управляемый источник постоянного тока, формирователь рабочих импульсов, систему управления формирователем рабочих импульсов, о т л ич а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества гальванопокрытия и КПД устройства, оно снабжено регулируемой индуктивностью и дополнительными диодами, один из которых подключен параллельно формирователю рабочих импульсов в обратном проводящем направлении, а другой — параллельно выходу формирователя рабочих импульсов в обратном проводящем направлении.

9 12

Изобретение относится к гальванооборудованию и может быть использовано для электроосаждения металлов и сплавов при нестационарном электролизе.

Целью изобретения является повышение качества гальванопокрытия и

КПД устройства.

На фиг. 1 изображена принципиальная электрическая схема устройства; на фиг. 2 — временные диаграммы устройства.

Устройство содержит управляемый источник 1 постоянного тока, выполненный по мостовой схеме Ларионова с емкостным фильтром 2 на выходе, который обеспечивает регулирование амплитуды рабочих импульсов. Отрицательный вывод источника питания соединяется с эмиттером формирователя

3 рабочих импульсов, представляющий собой источник силовых однополярных импульсов, и с анодом диода 4, коллектор формирователя 3 соединен с катодом диода 4, где подключены анод диода 5 и один из концов регулируемого дросселя 6, второй конец дрос-. и селя 6 подключается к катоду 7 гальванической ванны 8. К положительному выводу ИПТ подсоединены катод диода

5 и анод 9 гальванической ванны. Система управления формирователем 10 рабочих импульсов подключена к эмиттерно-базовому переходу формирователя 3. Система 10 управления формирователем вырабатывает управляющие импульсы регулируемой частоты и скважности.

Устройство работает следующим образом.

При подаче управляющего сигнала от системы 10 управления формирователем на силовой вентиль 3 последний открывается и формирует рабочий импульс тока, протекающего через ин дуктивность 6 и электроды гальванической ванны 7 и 9. При этом в индук24357

2 тивности 6 накапливается определенное количество электрической энергии, емкость двойного электрического слоя заряжается и протекает фарадеевский процесс.

После запирания вентиля 3 дроссель

6 начинает разряжаться по замкнутому контуру, образованному обратным диодом 5 и емкостью двойного электричес10 кого слоя. Емкость двойного электрического слоя также начинает разряжаться по контуру, образованному дросселем 6, диодом 4 и емкостью фильтра 2.

Индуктивность 6 в зависимости от

1S величины емкости двойного электрического слоя и активного сопротивления электролита выбирается такой, чтобы в цепи происходил колебательный разряд емкости двойного электрического

20 слоя в момент отключения за время паузы между рабочими импульсами.

Исходя из теории колебательного разряда емкости на активном и индуктивном сопротивлении, значение ин25 индуктивности можно найти по формуле;

Наличие регулируемой индуктивнос30 ти 6 позволяет регулировать частоту и амплитуду колебаний разряда емкости двойного электрического слоя, а это позволяет управлять составом ионов на границе катода 7, поскольку

З5 они отходят эа время паузы от катода в объем электролита на различные расстояния, зависящие от их масс и заряДова

Управление составом ионов позволя40 ет варьировать компонентами при электроосаждении сплавов без изменения плотности тока,кислотности и состава электролита, что улучшает ка1 чество покрытий, а использование не45 зависимого колебательного разряда емкости двойного электрического слоя повышает КПД источника питания.

1224357

Составитель С.Пономарев

Техред О.Сопко Корректрр С.Шекмар

Редактор Н.Швыдкая

Заказ 1894/26 Тираж 615

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

1 13035, Иосква, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4