Установка оптической литографии
Патент 1247821
Авторы
Классы МПК
Установка оптической литографии
Иллюстрации
Реферат
Изобретение может быть использовано в электронной технике, точном машиностроении при изготовлении фотошаблонов, мультиплицировании и т. д. Цель изобретения - повышение качества переноса изображения и повышение производительности. Излучение от источника 1 когерентного излучения подается на оригинал 2 и объективом 3 направляется через блок 4 оптической развязки , в усилитель 5, и в формирователь 6, из которого в обратном направлении выходит волна с обращенным волновым фронтом, затем волна проходит в обратном направлении усилитель 5 и с помощью блока 4 оптической развязки фокусируется на регистратор 8. Фазовые искажения компенсируются с точностью до дифракционной расходимости . 2 ил. (Л ю 4ib 00 1C
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК
ÄÄSUÄÄ 1247821 А1 (51)4 бОЗВ2732
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К А BTOPGHOlVIV СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3742345/24-10 (22) 22.05.84 (46) 30.07.86. Бюл. № 28 (72) В. А. Елисеев, А. Н. Анисимов и А. И. Сучков (53) 655.31 (088.8) (56) Пресс Ф. П. Фотолитография в производстве полупроводниковых приборов. М.:
Энергия, 1967, с. 152, 172.
Пресс Ф. П. Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. M.: Советское радио, 1978, с. 82,85. (54) УСТАНОВКА ОПТИЧЕСКОЙ ЛИТОГРАФИИ (57) Изобретение может быть использовано в электронной технике, точном машиностроении при изготовлении фотошаблонов, мультиплицировании и т. д. Цель изобретения— повышение качества переноса изображения и повышение производительности. Излучение от источника 1 когерентного излучения подается на оригинал 2 и объективом 3 направляется через блок 4 оптической развязки, в усилитель 5, и в формирователь 6, из которого в обратном направлении выходит волна с обращенным волновым фронтом, затем волна проходит в обратном направлении усилитель 5 и с помощью блока 4 оптической развязки фокусируется на регистратор 8. Фазовые искажения компенсируются с точностью до дифракционной расходимости. 2 ил.
1247821
Изобретение относится к области оптической литографии, основанной на применении когерентного излучения, и может быть использовано в электронной технике, точном машиностроении и других областях при изготовлении фотошаблонов, мультиплицировании и т. д.
Цель изобретения — повышение качества переноса изображения и повышение производительностии.
На фиг. 1 изображена оптическая схема 10 установки оптической литографии; на фиг. 2 и 3 графически иллюстрируется принцип компенсации искажений, вносимых неоднородностью в плоский фронт.
Установка оптической литографии состоит из источника 1 когерентного излучения, 15 оригинала 2, стоящего перед объективом 3, блока 4 оптической развязки, оптического квантового усилителя 5, формирователя 6 предметного излучения с обращенным волновым фронтом, второго обьектива 7, формирующего изображение оригинала 2 па регистраторе 8 изображения.
Установка работает следующим образом.
Излучение от источника 1 когерентного излучения подается на оригинал 2 и объективом 3 направляется через блок 4 в усилитель 5.
После усилителя 5 излучение попадает в формирователь 6, из которого в обратном направлении выходит волна с обращенным волновь1м фронтом.
Физическая сущность принципа компенсации состоит в следующем. Если на формирователь излучения с обращенным волновым фронтом подается излучение с искажен. ным оптической неоднородностью волновым фронтом («a фиг. 2а — участок I волнового
35 фронта после прохождения неоднородности имеет задержку Л . = a(n — и-) относительно участка II, где а — — размер оптической неоднородности в направлении распространения излучения, и; — показатель преломления неоднородности, n, -- показа- 40 тель преломления окружающей неоднородность среды, и )nc), то после «отражения» формирователем задержка участка I сменится на его опережение на эту же величину
Л+ = a (nH — -n.) относительно участка I I, т. е. произойдет обращение волнового фронта, падающего на формирователь излучения (фиг. 2 б) .
При прохождении излучения с таким волновым фронтом в обратном направлении через ту же оптическую неоднородность (фиг. 2б) участок I, имеющий опережение
Л1 = а(а — пс), получит дополнительную задержку Л = a(n — пс) . .В результате vocле прохождения волны через неоднородность в обратном направлении суммарное смещение участка 1волнового фронта относительно участка II составит Л = Лч + Л =. а п— — -и.) —,a(n.— и ) = О, т. е. искажение волнового фронта, вызванное оптической неоднородностью при прямом прохождении излучения, полностью (с точностью до дифракционной расходимости) компенсируется при прохождении преобразованного формирователем излучения через эту же неоднородность в обратном направлении (на фиг. 2б волна, распространяющаяся влево за неоднородностью) .
Вышедшее из формирователя 6 излучение с обращенным волновым фронтом пропускается для повторного усиления через тот же усилитель 5 в обратном направлении и с помощью блока 4 и объектива 7 фокусируется на регистратор 8.
При этом прохождении излучения с обращенным волновым фронтом через усилитель 5 в обратном направлении, фазовые искажения, внесенные усилителем 5 при прохождении излучения в прямом направлении, компенсируются с точностью до дифракционной расходимости.
Для компенсации искажений, вносимых аберрациями объективов 3 и 7, они берутся одной марки, поскольку характерные аберрации объективов одной марки имеют близкие значения.
Кроме того, из группы объективов одной марки выбираются объективы, величины остаточных аберраций (сферической, комы, астигматизма, кривизны, дисторсии) которых удовлетворяют условию где Л ;, Л2, — величина аберрации с-го вида соответственно первого и второго объективов;
Л, — допустимая разность аберраций -го вида, обусловленная технологией процесса литографии.
Применение второго объектива для компенсации искажений, вносимых аберрациями первого объектива, улучшает качество изображения и обуславливает некритичность к использованию дорогостоящей безаберрационной оптики. Кроме того, благодаря двойному усилению излучения, существенно повышается производительность процесса литографии. Повышению производительности способствует и открывающаяся возможность применения мощных оптических квантовых усилителей, благодаря компенсации их фазовых искажений.
Формула изобретения
Установка оптической литографии, включающая источник когерентного излучения, оригинал, объектив и регистратор изображения, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества переноса изображения и повышения производительности, за объективом введены блок оптической развязки, 1247821
Фыа.ляжь
РармыроУаЮо,„,, ЛгЛ ЙЛ i i C
09P
МойчорО Ь ос а (л -л ) BuccmaЮ/Лежа?У
&Л.4 а
УюгФоро&acm
Составитель В. Андреев
Редактор А Ревин Техред И. Верес Корректор В. Бутяга
Заказ 412 46 Тираж 436 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4!5
Филиал ППП «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4 оптический квантовый усилитель, формирователь предметного излучения с обращенным волновым фронтом и второй объектив, причем аберрации объективов связаны соотношением
0а йу рщду ь е л мм.е, ау
ЛЛОСЛ а.4
8wwu где Л, Л2; — величины аберрацииi, -ro вида соответственно первого и второго объективов;
Л; — допустимая разность аберраций i-го вида, обусловленная технологией процесса литографии.
, оеодразоАж,р р рмироба- 4оРмоРабатель
rnerrerr Йлж?
ЙлФБ/ с +44