Устройство для аттестации фазовых пластин

Устройство для аттестации фазовых пластин

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Устройство позволяет повысить точность аттестации полуволновых фазовых пластин. С помощью оптической системы 2-4 формируют параллельный пучок линейно-поляризованного света и направляют его на двупреломляющую кристаллическую пластину 6. Суммарная интенсивность интерферирующих обыкновенного и необыкновенного лучей после анализатора 7 зависит от длины волны излучения А . Развертка по спектру осуществляется с помощью монохроматора 9. Введение контролируемой фазовой пластины 15 вызывает изменение контраста интерференционной картины, контраст становится равным нулю на длине волны, для которой фазовая пластина 15 является полуволновой . Ширина щелей I монохроматора 9 и толщина d пластины 6 связаны соотношением ,l (d/(/dE) , где /V- показатель двупреломлекия; d/1/dE - обратная линейная дисперсия монохроматора. 1 ил. i (Л 5 6 15 7

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

А1 а91 СЮ сЮ4 G 01 Õ 9/02

OIlHCAHHE ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ABTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

4 Х 6 1Х 7

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 3859536/24-25 (22) 25.02.85 (46) 07.08.86. Бюл. В 29 (72) Б.В. Кузнецов (53) 535.8(088,8) (56) Татарский В.Б. Кристаллооптика и иммерсионный метод. М.: Недра, 1965, с. 87.

Оптико-механическая промышленность, 1959, В 9, с. 59. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ АТТЕСТАЦИИ ФАЗОВЫХ ПЛАСТИН (57) Устройство позволяет повысить точность аттестации полуволновых фазовых пластин. С помощью оптической системы 2-4 формируют параллельный пучок линейно-поляризованного света и направляют его на двупреломляющую кристаллическую пластину 6. Суммарная интенсивность интерферирующих обыкновенйого и необыкновенного лучей после анализатора 7 зависит от длины волны излучения . Развертка по спектру осуществляется с помощью монохроматора 9. Введение контролируемой фазовой пластины 15 вызывает изменение контраста интерференционной картины, контраст становится равным нулю на длине волны, для которой фазовая пластина 15 является полуволновой, Ширина щелей E монохроматора 9 и толщина d пластины 6 связаны соотношением и-àñ0,1 р (а /м), где /» — показ атель двупреломления;

d)/а3 — обратная линейная дисперсия монохроматора. 1 ил.

1 12493

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для аттестации полуволновых фазовых пластин.

Цель изобретения — повышение точности аттестации эа счет измерения контраста интерференционной картины.

На чертеже приведена структурная схема устройства.

Устройство содержит источник l 1Î света, конденсор 2, диафрагму 3, объектив 4, поляризатор 5, двупреломляющую кристаллическую пластину 6, анализатор 7, объектив 8, монохроматор 9, линзу 10, фотоприемник 11 и блок регистрации, включающий усилитель 12, высоковольтный стабилизатор 13 и компенсационный самопишущий прибор 14.

Устройство работает следующим об- 20 разом..

Свет от источника 1 падает на оптическую систему 2-4, формирующую параллельный пучок лучей. Линейно поляризованный свет, попавший на 25 двупреломляющую кристаллическую пластину 6, разбивается на два луча обыкновенный и необыкновенный, которые распространяются в пластине в одном и том же направлении, но с разными скоростями. Электрический вектор Е в необыкновенном луче колеб<е лется в направлении оптической оси двупреломляющей оптической пластины, а электрический вектор Е„ в необыкновенном луче — во взаимноперпендикулярном направлении, причем амплитуда обоих лучей равна Е, / Г2, где Е, амплитуда колебаний электрического вектора в луче, прошедшем через поляризатор. Между колебаниями обоих лучей возникнет разность фаз b =(2k+ а

+1)П где k=

A (d — толщина пластины 6, / — показатель двупреломле- 45 ния, 1 — длина волны). После анализатора 7 амплитуды этих лучей становятся равными Е„ /2. Оба рассматриваемых луча возникают из одного линейно поляризованного луча, поэтому они коге- 50 рентны и могут интерферировать. Если полуцелое число, оба луча максимально усилят друг друга и поле при рассмотрении через анализатор ока— жется просветленным. Если k — целое число, лучи полностью погасят друг друга, и поле останется. темным. При освещении системы белым светом усло47 2 вия максимального усиления или ослабления осуществятся не одновременно для лучей разных длин волн. Развертка по спектру осуществляется с помощью монохроматора 9 в виде чередуюшихся светлых и темных полос. Ввведение контролируемой фазовой пластины

15 между кристаллической пластиной 6 и анализатором 7 вызывает изменение контраста интерференционной картины.

По мере приближения к той длине волны, для которой исследуемая фазовая пластина является полуволновой, контраст интерференционной картины падает до нуля.

Величина потока излучения определяется шириной входной и выходной щелей монохроматора 9, осуществляющем развертку по спектру интерференционной картины. С другой стороны спектральная ширина щелей монохроматора 1 должна быть такой, чтобы можно было записать интерференционную картину без искажений и с достаточным по величине перепадом амплитуды электрического сигнала на максимуме и минимуме картины. Отношение

М /4h(0,1 обеспечивает запись интерференционной картины без искажений. а аА

Так как AL = — " 1, где — — обратй" п ная линейная дисперсия монохроматора, 1 — ширина входной и выходной целей

A монохроматора, ай = —, то ширина

p d. входной и выходной щели монохроматора 1 и толщина двупреломляющей кристаллической пластины Й связаны соотношением:

0 1М - аЛ вЂ” P формула изобретения

Устройство для аттестации фазовых пластин, содержащее источник света, поляризатор, анализатор, фотоприемник и блок регистрации, о т л и ч а ю ц е е с я тем, что, с целью повышения точности аттестации полуволновых фазовых пластин, оно дополнительно содержит плоскопараллельную двупреломляющую кристаллическую пластину, расположенную между поляризатором и аттестуемой полуволновой фазовой пластиной, и монохроматор, располо,женный между анализатором и фотоприемником, причем поляризатор и анализ !249347 4 затор скрещенъ, направление оптичес- зана с шириной 1 входной и выходной кой оси двупреломляющей кристалли- .щелей монохроматора соотношением о ( — 1 ческой пластины составляет угол 45 1а 0,!Л j (аЛ/dl) с направлением пропускания поляриза- где 3 — длина волны; p — показатель тора и параллельно плоскости среза 5 двупреломления материала кристаллиэтой пластины, а толщина d двупрелом- ческой пластины; 61/й1 — обратная чющей кристаллической пластины свя- линейная дисперсия монохроматора.

Составитель В. Рандомкин

Редактор P. Цицика Техред Н.Бонкало Кбрректор А. Тяско

Заказ 4225/4! Тираж 778 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий!!3035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4