Способ записи прозрачного рельефного изображения

Способ записи прозрачного рельефного изображения

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к способу записи прозрачного рельефного изображения и позволяет повысить качество записи. Фототермопластический слой (ФС) подложки, в качестве которой используют полиэтилентерефталатную пленку с паказателем преломления г, 1,6, равномерно заряжают и экспонируют на него уменьшенное оптическое изображение. Производят тепловое проявление скрытого изображения. На поверхности ФС возникает фототермопластическое изображение с характерным рельефом. Образуются выпуклые цилиндрические микролинзы, которые фокусируют проходящий через них световой поток в подложке. Деформацию высоты рельефных штрихов получают на ФС при записи на нем негат ивного изображения . Заряжают ФС и экспонируют на него негативное изображение. Проявляют импульсы экспонированием инфракрасным светом, происходит выпучивание ФС под разряженными штриховыми элементами и возникает рельеф в форме бугров над ровной поверхностью ФС. с S (/)

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) ()1) А1 (5)) 4 G 03 С 16 00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

H A BTGPCHGMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

flO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3799145/28-12 (22) 09.10.84 (46) 30.08.86. Бюл. № 32 (72) В.А.Макарычев и Л.И.Нюнько (53) 772.93 (088.8) (56) Патент США ¹ 2164622, кл. G 03 G 5/00,1977. (54) СПОСОБ ЗАПИСИ ПРОЗРАЧНОГО РЕЛЬЕФНОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ (57) Изобретение относится к способу записи прозрачного рельефного изображения и позволяет повысить качество записи. Фототермопластический слой (ФС) подложки, в качестве которой используют полиэтилентерефталатную пленку с паказателем преломления n=

=1,6, равномерно заряжают и экспонируют на него уменьшенное оптическое иэображение. Производят тепловое проявление скрытого изображения. На поверхности ФС возникает фототермопластическое изображение с характерным рельефом. Образуются выпуклые цилиндрические микролинзы, которые фокусируют проходящий через них световой поток в подложке. Деформацию высоты рельефных штрихов получают на ФС при записи на нем негативного иэображения. Заряжают ФС и экспонируют на него негативное изображение. Проявляют импульсы экспонированием инфракрасным светом, происходит выпучивание ФС под разряженными штриховыми элементами и возникает рельеф в форме бугров над ровной поверхностью ФС.

1?54425

Изобретение относится к электрографии, а именно к способам регистрации информации, в частности к фототермопластической записи, используемой в микрофильмировании. 5

Цель изобретения — повышение ка30 чества записи.

Пример. В качестве подложки фототермопластического слоя (ФС) используют полиэтилентерефталатную пленку с показателем преломления

n=1,б.

ФС подложки равномерно заряжают и экспонируют на него уменьшенное изображение. Далее производят тепловое проявление скрытого изображения, в результате чего на поверхности фототермопластического слоя возникает фотопластическое изображение с характерным рельефом. Образуются выпуклые цилиндрические микролинзы (в случае негативного изображения), которые фокусируют проходящий через них световой поток в подложке.

Параметры рельефообразных штрихов а (ширина) и h (амплитуда) удовлетворяют соотношению:

f=a /kh(n-1) f = d, (1) где f — фокусное расстояние микролинзы;

k — коэффициент, зависящий от формы рельефа штриха;

d — толщина подложки; п — показатель преломления подложки

При расчете по формуле (1) получают, что при толщине подложки 175 мкм (одна из характерных толщин выпускаемой лавсановой, т.е. полиэтилентерефталатной пленки) высота рельефообраз- 4О ных штрихов равна 1.,9 мкм (при k=1,6), что соответствует форме деформации штриха близкой к синусоидальной. Деформацию такой высоты получают на ФС при записи на нем негативного изобра- 5 жения. Для этого используют ФС толщиной - 18 мкм, заряжают его до напряженности поля 50 В/мкм (или до потенциала 900 В). После зарядки на

ФС экспонируют негативное изображение 5О (светлые штрихи на темном фоне) с

3 экспозицией 2 - 10 лк с, в результате чего штриховые элементы разряжаются ниже уровня фонового заряда. Проявление осуществляют импульсным экспонированием инфракрасным светом в течении 1с при мощности импульса 1 ВТ/см.

При проявлении происходит выпучивание

ФС под разряженными штриховыми элементами и возникает рельеф в форме бугров над ровной поверхностью слоя.

Из-за сравнительно низкой напряженности поля хаотические морозные деформации на поверхности ФС не образуются. Микрофотометрирование распределения интенсивности светового потока (коллимированный световой поток белого света, создаваемый осветителем от микроскопа), проходящего в плоскости внешней поверхности подложки показывает, что увеличение интенсивности под рельефообразным штрихом в среднем превышает интенсивность фона в

3 раза, а колебания интенсивности фона не превышают 107.

Для записи полученного прозрачного рельефного изображения с уменьшением используют носитель с приемным ФС толщиной 4 мкм, заряжают его до 300 В.

Затем носитель приводят в контакт с подложкой ФС и осуществляют экспонирование. Время экспонирования состав- ляет 2-Зс при освещенности фона

100 лк.

Получают скрытое изображение, которое проявляют обращенным жидким проявителем. Проявленное изображение имеет амплитудный характер. Воспроизведение проявленного изображения осуществляют в объемных читальных аппаратах.

Пример 2. Способ записи с уменьшением 42 на тех же фототермопластических материалах по примеру 1.

Характерная ширина штрихов записываемого негативного изображения 9 мкм.

Расчет высоты рельефообразного штриха при той >ке толщине подложки 175 мкм по формуле (1) дает величину 0,5 мкм.

Такой рельеф может быть получен на

ФС с толщиной 3,5 мкм, который заряжают до напря>кенности поля 100 В/мкм, з при экспозиции 10 лк. с. Превышение интенсивности света в плоскости подложки над фоновой лежит в пределах

3-5 раз. Запись осуществляют на носитель, в качестве которого используют везикулярную микрофишную пленку.

В качестве источника освещения используют лампу ДКСШ-200, спектр излучения которой богат УФ- и синими лучами. Проявление скрытого изобра- жения осуществляют путем нагрева вео зикулярной пленки до 100 С.

1254425 формула изобретения щим экспонированием, причем толщину подложки фототермопластического слоя определяют из соотношения:Составитель И.Шатии

Редактор Л.Пчелинская Техред М.Ходанич Корректор С.Черни

Заказ 4717/50 Тираж 436 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Произвоцственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Способ записи прозрачного рельефного изображения, сформированного на фототермопластическом слое, нанесенном на подложку, включающий экспонирование приемного фоточувствительного носителя регулярным световым потоком и проявление носителя, о т— л и ч а ю шийся тем, что, с lO целью повышения качества записи, подложку фототермопластического слоя приводят в контакт с приемным фоточувствительным носителем с последуюгде а — ширина линий рельефного изображения;

h — высота (глубина) линии рельефа фазового изображения;

k — - коэффициент формы рельефа;

n — показатель преломления подложки.