Способ базирования призматической детали
Патент 1269968
Авторы
Классы МПК
Способ базирования призматической детали
Иллюстрации
Реферат
Изобретение относится к области обработки материалов резанием, а именно к способам базирования призматических деталей , и является дополнительным к авт. св. № 1085747. Изобретение позволяет повысить точность базирования призматической детали путем уменьшения линейны.х составляюших погрешности базирования. Устройство для реализации предложенного способа базирования содержит корпус 1 с базируюшими элементами 2 и 4, каждый из которых состоит из двух частей: основания 2, 4 и опорного элемента 2 ,4. Деталь 5 с поверхностями А (Аз) устанавливается на опорные элементы 2, 4 и поворачивается вокруг осей Y-Y. Расстояние а(а) от оси поворота X-X базируюш.его элемента 2 до рабочей поверхности Пз смежного базирующего элемента 2 определяется по определенной зависимости. 3 ил. S (Л to О5 СО ;О 05 00 14
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК
„„SU„„1269968 (ß1) 4 В 23 3/06
А2
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К А BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Л 2
Фиг. 2
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (61) 1085747 (21) 3848897/25-08 (22) 29.01.85 (46) 15.11.86. Бюл. № 42 (71) Куйбышевский ордена Трудового
Красного Знамени политехнический институт им. В. В. Куйбышева (72) А. В. Еремин и С. А. Немыткин (53) 62.229.329 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 1085747, кл. В 23 (, / 3/06, 1982. (54) СПОСОБ БАЗИРОВАНИЯ ПРИЗМАТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ (57) Изобретение относится к области обработки материалов резанием, а именно к способам базирования призматических деталей, и является дополнительным к авт. св. № 1085747. Изобретение позволяет повысить точность базирования призматической детали путем уменьшения линейных составляющих погрешности базирования.
Устройство для реализации предложенного способа базирования содержит корпус 1 с базирующими элементами 2 и 4, каждый из которых состоит из двух частей: основа/ / Il // ния 2, 4 и опорного элемента 2, 4 . Деталь 5 с поверхностями А, (Аз) устанавливается на опорные элементы 2", 4" и поворачивается вокруг осей Y — Y. Расстояние а (а ) от оси поворота Х вЂ” Х базирующего элемента 2 до рабочей поверхности Пз смежного базирующего элемента 2 определяется по определенной зависимости. 3 ил, 1269968
Формула изобретения
tgx
Хр н;
pi
Изобретение относится к обработке материалов резанием, а именно к способам базирования призматических деталей при механической обработке, контроле и сборке, и является дополнительным к авт. св. № 1085747.
Целью изобретения является повышение точности базирования призматической детали путем уменьшения линейных составляюших погрешности базирования.
На фиг. 1 изображена принципиальная схема способа базирования призматической детали; на фиг. 2 — устройство для реализации способа базирования, продольный разрез; на фиг. 3 — то же, поперечный разрез.
Устройство для базирования призматической детали содержит корпус 1, на котором размешены базируюшие элементы (горизонтальный 2, вертикальный 3 и боковой
4), каждый из которых состоит из двух частей: основания 2 (3, 4 ), неподвижно установленного на корпусе 1 и выполненного в виде срезанного цилиндра (или двух срезанных сфер) и охватывающего основание опорного элемента 2 (3", 4") с рабочей поверхностью П q (П, Пз). При этом опорный элемент 2" (3", 4 I) установлен с возможностью поворота относительно цилиндрической (или сферической) поверхности основания 2 (3, 4 ) в системе координат
ХьDtt Ytt Zg . Оси х — х, Y — у, z — z, проходяшие через опорные точки детали 5, параллельны соответствующим осям координат
Xtt, Ya. Хв и находятся на расстояниях а (а,, а7„а ) от рабочих плоскостей П „ (П,, П,, Пз) опорных элементов 2", 3" и 4".
Деталь 5 имеет базируюшие поверхности
А (Аь А7, Аз) и габаритные размеры Нс (Hi П2 H Ъ)
Расстояние а; рассчитывается по зависимости
h. tie„. а, =
Ут -ч м где 1 -расстояние от оси поворота базируюшего элемента до рабочей поверхности смежного базируюшего элемента в исходном состоянии; где — угол дополнительного поворота базируюшего элемента; р — допустимая величина погрешности расположения базируюшей поверх ности детали;
Hi. — габаритный размер детали.
Базирование призматической детали 5 осуществляется следующим образом.
Деталь 5 одной из своих поверхностей А1 перемешается на горизонтальный базовый элемент 2 до контакта ее с плоскостью П1 опорного элемента 2, чем лишают к деталь 5 двух степеней свободы: поворота вокруг оси OsYs и прремешения вокруг оси
Оров. Затем перемешают деталь 5 по плоскости П>. Она разворачивается вокруг оси
10 х — х до момента полного соприкосновения второй поверхностью А с плоскостью П опорного элемента 3 вертикального базоll вого элемента 3, чем лишает деталь 5 еше двух степеней свободы: перемешения вдоль оси OqYtt и поворота вокруг оси ОвХВ.
После этого деталь 5 досылается до базового элемента 4 с разворотом ее относительно оси ZZ и с обеспечением контакта ее поверхности А с плоскостью Пз опорного элемента 4, чем лишают деталь 5 двух оставшихся
ll
20 степеней свободы: перемещения вдоль оси
О Х> и поворота вокруг оси O>Ztt.
Таким образом, деталь 5 лишена всех шести степеней свободы.
Способ базирования призматической детали по авт. св. № 1085747, отличающийся
-70 тем, что, с целью повышения точности базирования, дополнительный поворот детали производят относительно осей, удаленных от рабочих поверхностей базовых элементов в сторону, противоположную соответствуюшим им поверхностям базируемой детали, на расстояние а, определяемое по следуюшей зависимости:
Ь; t »;
7эж,-i
40 где k„. расстояние от оси поворота базируюшего элемента до рабочей поверхности смежного базируюшего элемента в исходном положении; где, -угол дополнительного поворота базируюшего элемента;
Tpt — допустимая величина погрешности
50 расположения базируюшей поверхности детали;
Н„-габаритный размер детали.
1269968
Рыг 1 г 2"
Редактор М. Келемеш
Заказ 6080/11
Сост ави тель А. Н их и форо в
Техред И. Верес Корректор А. Зимокосов
Тираж 826 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП «Патент>, г. Ужгород, ул. Проектная, 4