Стекло для резисторов
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Изобретение относится к производству легкоплавких стекол, которые могут быть использованы в электронной технике, в частности для изготовления резистивных композиций по толстопленочной технологии. С целью повьшения кристаллизационной и химической устойчивости стекло содержит, мае.%: B,0, 33,25-40,34; МоО 11,92- 15,57; CdO 13,90-17,04; PbO 11,85- 12,32; А1.г0.э 5,41-5,63,- SiO 6,37- 6,63; ZnO 8,80-10,80. Химическая устойчивость I гидролитический класс, ТКЛР, с (20-400°С) (53,4-59,4) 10 , температура размягчения 520- 530 С, удельное электрическое сопротивление при 400°С (2,38-3,0) см. 2 табл. с (Л
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК (50 4 С 03 С 3/074
g(Yg f . щ
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К A ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (54) СТЕКЛО ДЛЯ РЕЗИСТОРОВ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
IlO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4047776/29-33 (22) 01.04.86 (46) 23.02.88. Бюл. Р 7 (71) Минский радиотехнический институт (72) Н.М.Бобкова, И.Л.Раков, 3.Н.Шалимо, Н.П.Соловей и А.П.Молочко (53) 666.112.6 (088.8) (56) Веребейчик Н.N. Оделевский В.И.
Вопросы радиоэлектроники, 1960, сер.3, вып.2.
Авторское свидетельство СССР
ii) 1186591, кл. С 03 С 3/074, 1984.
„„SU„„1375587 А 1 (57) Изобретение относится к производству легкоплавких стекол, которые могут быть использованы в электронной технике, в частности для изготовления резистивных композиций по толстопленочной технологии. С целью повышения кристаллизационной и химической устойчивости стекло содержит, мас.%: В,«О., 33,25-40,34; МоОэ 11,92i5,57; Cd0 13,90-17,04, РЬО 11,8512,32; А1.)О 5,41-5)63; SiO 6,376,63; Znp 8,80-10,80. имическая устойчивость I гидролитический класс, ТКЛР, С (20-400 С) (53,4-59,4)
10, температура размягчения 520530 С, удельное электрическое сопротивление при 400 С (2,38-3,0)"10 Ом см. 2 табл.
1375587
Таблица 1
Содержание компонентов, мас.7, в составе стекла
Компоненты
) г ) з
40,34
11,92
14,18
12,32
33,25
15, 28
17,04
11,85
37,65
15,57
13,90
12,07
В О
CdO
Pb0
5,63
5,41
5,52
А1,0, Si0<
6,49
6,63
6,37
8,98
10,80
8,80
ZnO
Изобретение относится к производству легкоплавких стекол, которые могут быть использованы в злектронной технике, в частности для изготовления резистивных композиций по толстопленочной технологии.
Цель изобретения — повьппение кристаллизационной и химической устойчивости.
Составы стекол приведены в табл.1.
Свойства стекол приведены в табл.2.
Из табл.2 следует, что описываемые стекла обладают повышенной кристаллизационной и химической устойчивостью.
При составлении шихт используют сырьевые материалы марки ч, хч ичда.
Стекла варят в силитовой печи при
13302.10 С. Выработку стекломассы осуществляют в холодную воду для получения гранулята, а также в формы для изготовления образцов, необходимых для исследования физико-химических свойств.
Данные стекла обеспечивают работу ! приборов в условиях повьппенной влажности. Полученные резисторы отличаются стабильностью характеристик.
Дрейф сопротивления под нагрузкой
0,5 Вт/см в течение 1000 ч составляет 1-1,57 (известной композиции на основе стекол 2,5-37).
Формула изобретения
Стекло для резисторов, включающее
В О» Moo» Cdo, Pbo, Al О, БдО
15 Zno, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повьппения кристаллизационной и химической устойчивости, оно содержит компоненты в следующих соотношениях, мас.X:
20 В О 33,25-40,34
МоО 11,92-15,57
CdO 13,90-17,04
PbO 11,85-12,32
А1 О 5,41- 5,63
SiO< 6,37- 6,63
ЕпО 8,80-10,80
1375587
Таблица 2
Свойства
Показатели для состава стекла
1 ) 2
Температура начала размягчения, С
530
520
525
ТКЛР 10, С ", в интервале 20-400 С
53,4
59,4
55,4
Удельное электрическое сопротивление при 400 С, Ом см 2,38.10"
3.10"
2,47 ° 10"
eg 10-4
40
8,0
7,4
7,2
Не кристаллизуется
Не кристаллизуется
710
720
690
Составитель Т.Трифонова
Техред М.Ходанич Корректор C.Черни
Редактор Н.Рогулич
Заказ 73!/23 Тираж 425 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород, ул;Проектная,4
Диэлектрические свойства при 20 С и К=
=10 "Гц;
Химическая устойчивость (гидролитический класс) Устойчивость к кристаллизации при .термообработке в интервале 4001000 С
Температура вжигания резистивных композиций, ОС
Чуть разводы пленки в интервале 720760 С