Способ определения структуры слоя сыпучих материалов
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Изобретение относится к моделированию процессов, в частности к моделированию поведения сыпучих матери-, апов в газовом потоке. Предложенная критериальная зависимость позволяет расширить диапазон определения структуры -слоя. Структура слоя определяет-, f ся как функция К.К Р вк М- где Vgjj - скорость газа на входе в слой; Уц - скорость частиц материала , находящихся под воздействием газа; Sj. - площадь сечения потока газа; S - площадь сечения слоя; . вк степень равномерности распределения газа при входе в слой; ц, - степень равномерности распределения газа при выходе из слоя. К 70-1800 отвечает плотному слою, К 70 - 0,2 - псевдоожиженному слою, К 0,2 - 0,0009 - фонтанирующему слою, К 0,0009 - 0,00011 - плотному слою с зоной циркуляции в его нижней части. 2 з.п. ф-лы, 1 табл. I (Л
СВОЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ
РЕСПУБЛИК щ,д1р т 13;;
У,11" У
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
И А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПОДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3978619/31-26 (22) 21.11.85 (4b) 07.05.88. Бюп. М 17 (71) Химико-металлургический институт АН КазССР (72) E. В. Максимов, А. Б. Талжанов, Ш. К. Капбасов, М. К. Альжанов, Е. К. Турсыпбаев и Ж. А. Койлыбаев (53) 648.342(088.8) (56) Известия вузов. Черная металлургия, 1975, II 10, с. 37-40. (54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ СТРУКТУРЫ
СЛОЯ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ (57) Изобретение относится к модели" рованию процессов, в частности к мо" делированию поведения сыпучих матери-. алов в газовом потоке. Предложенная критериальная зависимость позволяет расвирить диапазон определения струк„„SU„„1394223 A 1 (д1) 4 С 09 В 23/24 туры слоя. Структура слоя определяет-, 1 ся как функция К.К.—
4 сл >dliv где v „- скорость газа на входе в слой; vц — скорость частиц материала, находящихся под воздействием газа; $ — площадь сечения потока газа;
8сл — площадь сечения o ; 1ехстепень равномерности распределения газа при входе в слой; ц„ — степень равномерности распределения газа при выходе из слоя. К=70-1800 отвечает плотному слою, К = 70 — 0,2 — псевдоожиженному слою, К 0,2 — 0,0009— фонтанирующему слою, К = 0,0009—
0,00011 — плотному слою с зоной циркуляции в его нижней части. 2 з.п. ф-лы, 1 табл. С::
13с14223
И.«< бретение отнОсится к моделироВ аппарат загружался известняк и подавалась струя газа снизу. Изменив параметры г»за и аппарата, добивались исевдоожиженного состояния слоя материала, н»блюдая визуально. Измерения скорости газа проводились в пяти точк»х н» входе и выходе, измерялась ско-35 сK<3ðîсть ч»стии материал» и площади сечений потока газа. м/с = 45; 47; 48; 44; 4б;
> v. 40 — 46—
5 с
<«1 с м/с
<>ых
10; 12; 11; 13;
1=!
45 м — 1I с
3J
В<,)х. ср м
>« = 7 мм," = 30мм; = 12 — °
«с
Рассчитыв»л»сь степень равномерности расс<ре)<е)<с.ния г»з» на входе и выходе из слоя т„ (! ) I3>< ср
1«»пи)<> ирс>цесс», в частности к моделир< в»иию сыпучих м»терн»лов в газовом
I IC> TO)<, 5 (!ель изобретения — расширение ди;IrI»зс и» способ>» <>иределеиия структу— ры слоя.
Пример.
О, <5 ?? ???????????????? ?????????????????? ?? ???????????????? ???? !5 ?????? ???????????????????? 2 ????” 30 ????. ?? ???????????????? ???????????????? ?????????????????? ?????????????????????????? ?????????????????? ?????????????? l,?? 2,5 ????????????)????<- ??????????????)! ???????? ???? ?????????? ???????????? (" .?? 1?? . ?????????????????????????? ?????????????? 20 ?????????????? ?????????????????????????????????? ????????????, ???????????????? ???????????? ?????????????????? ?? „???????????????????????? ???????????????????????????? ??????????????????????. ?????????????? ?????????????? ???????????? ;>с, вводимого в слой, определяли по углу раскрытия конуса газа, подаваемого сс илом
5 ;<, 0,034;
< вь)х!
3< ) < — О, 14.
Рассчитывали критерий К
0,22.
К = 0,22 соответствует псевдоожи— женному слою.
В таблице приведены различные состояния слоя и значения.
Формул а изобретения! Способ определения структуры слоя сыпучих материалов, находящ<ихся под воздействием газового потока по критериальной зависимости, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью расширения диапазона, измеряют скорость газа на входе в слой, скорость материала, площадь сечения потока газа, введенного в слой, площадь сечения слоя, локальную скорость газа, а оценку структуры слоя сыпучих материалов производят по критериальной эа— висимости ч х " sx
t ч "с<«1 13 Ü<х где К критерий, определяющий структуру слоя; скорость газа н» входе в слой; скс>рость ч»стиц материала; площадь сечения и<>тока газа, введенного в <лс и; площадь сечения слоя; степень р»виомерис>сти р )определения г»»» н» ных< ле ех
Ч с с
l1c A
< В>< в слои степень равно I
1394223 о тлич а где циркуляции в его нижней части 0,0009-0,00011 I0
3. Способ по и. 1, о т л и ч а— ю шийся тем, что степень равномерности газа рассчитывают по формуле ср где и — число тачек измерения. корость, м/с с
Слой (визуаль ное состояние
Тип газоподводящего устройства сл газа астип атена входе в риала слой
Псевдоожиженный
Газ ораспределительная решетка
0 4 0 6 0 2 0 5
0,2 0,5 0,08 0,16
46 12
Фонтанирующий 50 10
5 001 0 4 0 7 0 7 140
Плотный
Плотный с эонои цирку-0,01 0,65 0,008 0,00007
120 90 ляции
Составитель С. Киселев
Редактор Л. К<> »риэ Техред Я.Дидык Корректор С. Черни
Заказ 2222/45 Тираж 459 Подписное !!!!!!!!!!И Государственного комитета СССР по делам изобретений и открь>тий !
l!О . >, 1!осква, Ж-35, Раушская иаб., д. 4/5
1!ро».»><;>о» пи< --полиграфическое предприят >е, г. Ужгс род, ул. !!роек >.иэя, 4
2. Способ по и. I, ю шийся тем, что терия К составляют для .Плотного
Псевдоожиженного
Фонтанирующего
Плотного с зоной
Диафрагма с центральным отверстием для подвода газа значения крисло ев
70-1800
70-0,2
0,2-0,0009
v — локальная cKop(>c Tb газа, > определяемая опытным путем;
v, — средняя скорость газа, рас— считываемая по формуле