Прибор для оптической термообработки

Прибор для оптической термообработки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение используется при изготовлении восковых моделей и зубных протезов в стоматологии, для сварки термопластичных материалов и пайки в промышленности . Цель изобретения - снижение энергопотребления. Прибор содержит стойку 1, на которой укреплен отражатель 5, в первом фокусе которого расположен источник света 6, во втором - догюлнительная площадка 4 размерами, не превышающими размеры светового пятна второго фокуса. Излучение, прошедшее мимо допо.чнительной площадки 4, поступает на подставку 3 для обрабатываемого материала, установленную с возможностью перемещения вдоль стойки 1, и производит предварительный нагрев обрабатываемого материала . 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (5D 4 А 61 С 3 00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

И А BTOPCHGMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

БВа 1,;

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4029778/28-14 (22) 25.02.86 (46) 23.10.88. Бюл. № 39 (71) Львовский политехнический институт им. Ленинского комсомола и Львовский государственный медицинский институт (72) А. Ф. Кожухарь, Ю. Б. Омельяненко, Б. В. Кириченко и В. Ф. Макеев (53) 615.475 (088.8) (56) Патент США № 3486004, кл. А 61 В 3/00, 1969. (54) ПРИБОР ДЛЯ ОПТИЧЕСКОЙ ТЕРМООБРАБОТКИ (57) Изобретение используется при изготовлении восковых моделей и зубных про„„SU„„1431750 A1 тезов в стоматологии, для сварки термопластичных материалов и пайки в промышленности. Цель изобретения — снижснис энергопотребления. Прибор содержит стойку 1, на которой укреплен отражатель 5, в первом фокусе которого расположен источник света 6, во втором — дополнительная площадка 4 размерами, нс превышающими размеры светового пятна второго фокуса. Излучение, прошедшее мимо дополнительной площадки 4, поступает на подста»ку 3 для обрабатываемого материала. установленную с возможностью пер ем еьцен и я вдоль стойки 1, и производит предварительный нагрев обрабатываемого матсриала. 1 ил.

1431750

Формула изобретения

Составитель Ю. Порепкий

Редактор В. Бугренкова Текред И. Верес Корректор В. Романенко

Заказ 5363/3 Тираж Б55 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная. 4.Изобретение относится к медицинскому пр 1боростроеник> и аппаратостроению сварочного производства и может быль использовано при изготовлении восковых моделей и зубных протезов в стоматологии, для сварки термопластичных материалов и пайки в промышленности.

Целью изобретения является снижение энергопотребления за счет более полного испоЛьзования лучистого потока. На чертеже представлена принципиальная схема прибора для оптической термооб аботки. Прибор содержит стойку 1, держатель 2 источника света, подставку 3 для обрабатываемого материала, установленную с возмо1кностью перемещения вдоль стойки 1, площадку 4, отражатель 5 с источником 6 све, та в первом фокусе и площадкой 4 — во втором, блок 7 питания и корпус 8. Площадка 4 может быть подвижно закреплена,на стойке 1 и отводиться в сторону.

Размеры площадки 4 не превышают разме. ро светового пятна источника 2 света во вт ром фокусе отражателя 5. Подставка 3 ус ановлена с возможностью перемещения вд ль стойки 1.

Устройство используется следующим обраЗом.

Лучистый поток от источника 6 света фокусируется отражателем 5 на площадке 4, предназначенной для высокотемпературного локального нагрева, например для быстрого расплавления, сварки или пайки объектов с размерами, не превышающими размеров площадки 4. Остальная часть лучистого потока направляется на подставку 3, интенсивность предварительного нагрева или термообработки объектов, на которой регули10 руется ее перемещение вдоль стойки 1.

Так полнее используется лучистый поток источника 6 света и достигается снижение энергопотребления.

Прибор для оптической термообработки, содержащий отражатель с источником света в первом фокусе, стойку и подставку для обрабатываемого материала, отличающийся тем, что, с целью снижения энергопотребления, подставка для обрабатываемого материала установлена с возможностью перемещения вдоль стойки, во втором фокусе отражателя помещена дополнительная площадка с размерами, не превышающими размеров светового пятна второго фокуса.