Способ изготовления интерференционного узкополосного фильтра

Способ изготовления интерференционного узкополосного фильтра

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к технологии нанесения оптических тонкослойных покрытий и позволяет повысить точность положения максимума пропускания фильтра относительно рабочей длины волны λ <SB POS="POST">раб</SB> до величины ± 1A°. Способ заключается в нанесении на плоскую прозрачную подложку чередующихся слоев диэлектрических материалов с высоким и низким показателями преломления путем катодного распыления в кислороде с контролем каждого из слоев по центру заготовки на контрольной длине волны λ<SB POS="POST">к</SB> = (1,001-1,003)λ<SB POS="POST">раб</SB>. Нанесение слоев производят на подложку диаметром более, чем в 4 раза превосходящем рабочий диаметр фильтра D<SB POS="POST">раб</SB>, затем выбирают и вырезают зону диаметром D<SB POS="POST">раб</SB>, центр которой совпадает с максимальным значением пропускания на длине волны λ<SB POS="POST">раб</SB>. 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН

„„SU, » 147642 (504 С 02 В

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А BTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГННТ СССР (21) 4111253/24-10 (22) 23.06.86 (46) 30.04.89. Бюл. У 16 (72) В.В.Донец, В.П.Соболь и В.И.Велигура (53) 535.345.67 (088.8) (56) Чайкин А.С., Пухонин В.В. Исследование параметров узкополосных интерференционных светофильтров от температуры и времени. — ЖПС, 1970, т.XII, вып.5 с.894..

РТМ-3-1069-77. Зеркала и фильтры интерференционные для области спектра 220-1500 нм. — Типовой технологи-. ческий процесс изготовления катодным распылением в кислороде. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННОГО УЗКОПОЛОСНОГО ФИЛЬТРА (57) Изобретение относится к технологии нанесения оптических тонко1

Изобретение относится к технологии нанесения оптических тонкослойных покрытий.

Цель изобретения — повышение точности положения максимума пропускания фильтра относительно рабочей длины волны Я рд до величины + 1А

На чертеже изображена характерная зависимость пропускания на рабочей

ppIHHp. BoJIHbl Аддин IIo диаметру подлож60ддомсмр

Способ осуществляют следующим образом.

Если фильтры изготовить так, чтобы длины волны максимального пропускания в центре подложки превышала на

5-15 А рабочую длину волны, то пракслойных покрытий и позволяет повысить точность положения максимума пропускания фильтра относительно рабочей длины волны р„, до величины

+ 1А. Способ заключается в нанесении на плоскую прозрачную подложку чередующихся слоев диэлектрических материалов с высоким и низким показателями преломления путем катодного распыления в кислороде с контролем каждого из слоев по центру заготовки на контрольной длине волны „=(1,001-1,003) рд . Нанесение слоев производят на подложку диаметром более, чем в 4 раза превосходящим рабочий диаметр фильтра d затем выбирают и вырезают зону диаметром d<>+ центр KDTopoH совпадает с максимальным значением пропускания на длине волны ярд . 1 ил. тически всегда можно выбрать зону с требуемым диаметром - 10-15 мм с максимальным пропусканием на Ярд (точное совмещение положения макси мального пропускания фильтра с необходимой длиной волны).

Например, на прозрачную очищенную подложку диаметром "- 80 мм (при необходимом диаметре фильтра 15 мм) путем катодного реактивного распыления в кислороде (при давлении в вакуум Ь ной камере 10 — 10 мм рт.ст.) последовательно наносят 23 чередующиеся четвертьволновые слои веществ с высоким и низким показателями преломления (Та О и Sio соответственно) 1476420 фильтр необходимого диаметра так, чтобы центр его рабочего диаметра совпадал с центром выбранной зоны. ф о р м у л а изобретения

Т к

Л @Х

Л рад-Ю

0 gp1$ ОЮ all

Составитель Н.Киреева

Техред М.Дидык

Редактор А.Ревин

Корректор В Романенко

Заказ 2153/47 Тираж 514 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r.Óæãîðîä, ул. Гагарина, 10i со средним слоем из Та О толщиной

Я/2, В качестве катодов используют металлический тантал марки Т или ТВЧ н поликристаллический кремний, изготовленный по методу Чохральского.

Катоды имеют форму дисков диаметром

"150 мм.

Контроль толщины слоев в центре подложки в процессе нанесения осуществляют с помощью фотометров ФМ-72 и ФМ-78, выполненных в виде насадок для вакуумной Камеры СМ-97 или ЭВ88М (в промежутках между периодами распыления). Периоды распыления продолжают до тех пор, пока толщина слоя не достигнет необходимой величины.

При этом фильтры (в центре заго- 20 товки) контролируют излучением с дли-, ной волны 3„, =(1,001-1,003) д

После напыления производят сплошной зонный спектрофотометрический контроль. Диаметр светового пучка в 25 этом случае 15 мм, т.е. примерно равный рабочему диаметру фильтра.

После анализа полученных результатов, выбирают и отмечают зону с максимумом пропускания на рабочей длине волны Яр и вырезают из заготовки

Способ изготовления интерференци-, онного узкополосного фильтра, заключающийся в нанесении на плоскую прозрачную подложку чередующихся слоев диэлектрических материалов с высоким и низким показателями преломления путем катодного распыления в кислороде, с контролем каждого из слоев по центру подложки на контрольной длине волны », а т л ич а ю шийся тем, что, с целью повышения точности положения максимума пропускания фильтра относительно рабочей длины волны 4р« до величины + 1L нанесение слоев производят на подложку диаметром D, опредеГ яют и вырезают зону с диаметром

dpA, центр которой совпадает с максимальным значением пропускания на длине волны р р р при этом Я„=1,0011,003) 1 р„ D > 4d ррах, причем определение зоны с диаметром de производят методом сплошного зонного спектрофотометрического контроля.