Способ изготовления никелевого маскирующего покрытия для фотошаблонов

Способ изготовления никелевого маскирующего покрытия для фотошаблонов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов методом лазерного гравирования. Цель изобретения - упрощение технологии и повышение качества покрытий, получаемых на крупногабаритных (50<SP POS="POST">.</SP>60 см<SP POS="POST">2</SP>) полированных стеклянных заготовках. Способ включает подготовку поверхности стекла, нанесение катализатора с последующим химическим никелированием. Катализатор наносят в виде пленки гидрооксида титана толщиной 0,01-0,1 мкм, используя композицию, содержащую, мас.%: алкоксид титана 2-6

хлорид палладия 0,02-0,1

10%-ный водный раствор соляной кислоты 0,5-1 и органический растворитель остальное. Указанную пленку высушивают при 120-150°С в течение 3-10 мин, а никелирование проводят в водном растворе ацетатов никеля и натрия, гипофосфита натрия и уксусной кислоты, состав которого приводится в описании. В качестве органического растворителя используют третбутанол, изопропанол, этанол или их смесь, а в качестве алкоксида титана-тетрабутокси-, тетраэтоксититан и полибутилтитанат. 1 з.п. ф-лы.

А1 (i9) SU (ii) (51) 4 Н 05 К 3/18

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ, & *

А((р (\ СОЮЗ CORET(HHX

С01.1ИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК м ""

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЬГТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

1 (2 1 ) 39 31964/24-6 3 (22 ) 19. 07. 85 (46) 07, 11.89. Бил. 11 41 (72 ) В, Г. Соколов, Г. А. Враницкий, Г. В. Богданов, A.È, Дула, A,Ф. Иатохин, В, И, Соловьев, Д. Е. Кузменков, О.Ю. Березин и С.А. Ковалева (53) 621. 38 (088, 8) (56) Авторское свидетельство СССР, М- 1123999, кл. С 03 С 17/06, 1984.

Авторское свидетельство СССР

Ф 513118, кл, С 23 0 1/00, 1976. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НИКЕЛЕВОГО

МАСКИРУЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ ДЛЯ ФОТОНАБЛОНОВ (57) Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов методом лазерного гравирования. Цель изобретения — упрощение технологии и повышение качества покрытий, получаемых на крупногабаритных (50»60 см ) полированных стеклянных заготовках. СпоИзобретение относится к технологии из готовления фотон аблонов методом лазерного гравирования и может быть использовано в производстве печатных плат и интегральных схем.

Цель изобретения — упрощение технологии и повышение качества покрытий, получаемых на крупногабаритных (500» 600 мм ) полированных стеклянных заготовках.

Пример 1. На стеклянную пластину, очищенную от загрязнений по известной метод:1ке, включа10щей, например, обр аботку хромпиком, отйывку в ультразвуковой ванне с водно-щелоч2 соб включает подготовку поверхности стекла, нанесение катализатора с пос— ледующим химическим никелированием.

Катализатор наносят в виде пленки гидрооксида титана толщиной 0,010,1 мкм, используя композицию, содержащую, мас,%: алкоксид титана 2-6, хлорид палладия 0,02-0,1;.10%-ный водный раствор соляной кислоты 0,51 и органический растворитель остальное. Указанную пленку высушивают при

120-150 С в течение 3-10 мин, а никелирование проводят в водном растворе ацетатов никеля и натрия, гипофосфита натрия и уксусной кислоты, состав которого приводится в описании. В качестве органического растворителя используют третбутанол, изопропанол, этанол или их смесь, а в качестве алкоксида титана-тетрабутокси-, тетраэтоксититан и полибутилтитанат.

1 з.п. ф — лы. ной эмульсией поверхностно-активных веществ, отмывку в деионизованной воде и финишную очистку в парах изопропанола, наносили методом полива композицию, содержащую, мас.%:

Тетрабутокснтитан 4,0

Хлорид палладия 0,06

10%-ный водньш раствор соляной кислоты 0,5

Третбутанол 95,44 с после чего пластину сушили при 140 С, в течение 5 мин. Затем пластину с образовавшейся на ней пленкой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила

3 1520676 л

1

92,9

0,06 мкм, обрабатывали в 1,5 М водно-изопропанольном (4: 1) растворе гипофосфита натрия в течение 1 мин о и никелировали при 65 С в течение

3 мин B растворе, содержащем

Ni(CH COO)g 4 Н О 5 г/л

NaHgPO 2 Н О 10 г/л

СН COONa 3 Н О 15 г/л

СН СООН 2,5 г/л

2 До1л

После промывки пластины в деионизованной воде и сушки TeIIJIblM воздухом ее прогревали а вакууме (133665 Па) с регулируемой скоростью нагрева и охлаждения при 300 С в течение 30 мин. Скорость нагрева и охлаждения не превышала 2 град/мин.

Полученное никелевое маскирующее покрытие имело следующие характеристики: оптическая плотность в диапазоне 340-550 нм — не менее 3 ед., группа прочности по ГОСГу О, количество дефектов — не более 0,1-0,2 см

Пример 2. На обработанную 25 как в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию, содерх ашую, мас . X:

Полибутилтитанат 2

Хлорид палладия 0,02

l 0X -ный раствор

30 соляной кислоты 0,5

Изопропанол 97,48 и сушили пр: 120 С в течение 3 мин.

Затем пластину с образовавшейся пленкой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой

35 составила О, О 1 мкм, обрабатывали, как в примере 1, в растворе гипофосо фита и никелировали при 70 С в течение 5 мин в растворе, содержащем:

М(СН СОО) 4 Н О 3 r/è

NaH P0 2 Н О 15 г/л

СН COÎNa ЗН О 5 г/л

СН,СООН 2 мл

НО До 1л.

Промывку, сушку и термообработку маскирующего покрытия проводили, как

:в примере 1. Эксплуатационные характеристики полученного покрытия были не хуже чем в примере 1.

Пример 3. На обработанную

50 как в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию, содержащую, мас.Х!

Тетразтоксититан 6

Хлорид палладия 0,1

10Х-ный раствор соляной кислоты

Третбутанол и сушили при 150 С в течение 7 мин.

Затем пластину с образовавшейся плен кой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила 0,1 мкм, обрабатывали как в примере 1 в растворе гипофосфита о и никелировали при 60 С в течение

3 мин в растворе, содержащем

N1(CH С00) 4 Н О 1О г/л

NaHãÐ0 2 Н O 50 г/л

CHyCOONa 3 Н О 1О г/л

СН CÎOH 3 мл

Н 20 До 1л

Промывку, сушку и термообработку маскирующего покрытия проводили как в примере 1. Эксплуатационные характеристики полученного покрытия были не хуже чем в примере I.

Пример 4. На обработанную как

l в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию, содержащую, мас. X

Тетрабутоксититан 3

Хлорид палладия 0,05

10Х-ный раствор соляной кислоты 0,08

Смесь изопропанола и третбутанола

1: 1 98,67 и сушили при 130 С в течение 10 мин.

Затем пластину с образовавшейся пленкой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила 0,05 мкм, обрабатывали как в примере 1 в растворе гипофосфита о и никелировалн при 75 С в течение

2 мин, в растворе, содержащем

Ni(СН С0О)г 4 Н О 4 г/л

ИаН2РО 2 Н О 20 г/л

CH>COONa 3 Н О 10 г/л

СНзСООН 3 мл

Н20 До1л

Промывку, сушку и термообработку маскирующего покрытия проводили как в примере 1. Эксплуатационные характеристики полученного покрытия были не хуже чем в примере 1, Формула из обретения

1, Способ из готовления никелевого маскирующего покрытия для фотошаблонов, включающий подготовку поверхности стекла, нанесение катализатора его сушку, химическое никелирование, промл вку, сушку и термообработку никелевого покрытия, о т л и ч а ю—

0,5-1

Ост альное до 100%

Составитель В. Каминский

Редактор В, Бугренкова Техред JI. Сердюкова Корректор В. Гирняк

Заказ 6770/57 Тираж 775 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,101

5 15206 шийся тем, что, с целью упроще--! ния технологии и повьш ения качества покрытий, получаемых на крупногаба 2 ритных (50i60 см ) полированных стек5 лянных заготовках, кат ализ атор на полированное стекло наносят в виде пленки гидрооксида титана толщиной

0,01-0,1 мкм, используя композицию., содержащую, мас.%: 10

Апкоксид титана 2-6

Хлорид палладия 0,02-0,1

10%-ный водный раствор соляной кислоты 15

Ор ганиче ский растворитель

76

6 которую после нанесения на стекло высунивают при 120-150 С в течение

3-10 мин, а никелирование проводят при 60-75 С в течение 2-5 мин в водном растворе, содержащем

Ni(СН С00) АН О 3-10 г/л

NaH@F0 2Н О 10-50 г/л

СН COONa ЗН О 5-15 г/л

СН СООН 2-3 мп

Н 30 До 1л

2, Способ по п.1, о т л и ч а ю— шийся тем, что в качестве органического растворителя используют третбутанол, изопропанол, этанол или их смесь, а в качестве алкоксида титана-тетрабутокси-, тетраэтоксититан и полибутилтитанат.