Способ изготовления контактных растров

Способ изготовления контактных растров

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к способам изготовления контактных растров. Целью изобретения является повышение качества контактных растров за счет получения заданных градационных характеристик интервала оптических плотностей и улучшения их оптико-фотографических свойств. Фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном через контактную растр-матрицу поэлементно суммой сканов. Каждый элемент фотометрируют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно. Время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого скана. Затем проводят химико-фотографическую обработку, сушку экспонированного фотоматериала и получают контактный растр.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

„.Я0„,,154877О,(51) 5 С 03 F 5/16

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Ф кр+ фм)

Н =10

1 Ос i Эксп с . (2) где D

li ф

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4419370/31-12 (22) 03.05.88 (46) 07.03.90. Бюл. Р 9 (72) З.К.Касьянова, О.Г.Овилко, С.А.Сергеев и В.M.Âàñüêèí (S3) 774/77.072 (О88.8) (56) Авторское свидетельство СССР

4" 308407, кг-. G 03 F 5/ 16, 1969.

{Я) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОНТАКТНЫХ

РАСТРОВ (57) Изобретение относится к способам изготовления контактных растров.

Целью изобретения является повышение качества контактных растров за счет полу ения заданных градационных хаИзобретение относится к полиграфии, в частности к Фоторепродукционным растровым процессам.

Цель изобретения - повышение качества контактных растров за счет получения с заданных градационных характеристик, интервала оптических плотностей и улучшения их оптико-фотографических свойств. формирование скрытого изображения элементов контактного растра на фотоматериале осуществляют последовательным поэлементным экспонированием.

Для i-ro скана устанавливают два параметра; К „ - коэффициент усиления цепи обратной связи, определяющий интенсивность сканирующего луча и й,р,„;- время экспонирования.

Интервал оптических плотностей контактного оастра определяют и представляющей собой сумрактеристик интервала оптических плотностей и улучшени их оптико-фо" тографических свойств. Фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном через контактную растр-матрицу поэлементно суммой сканов. Каждый элемент Фотометрируют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно. Время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого скана. Затем проводят химико-фотографическую обработку, сушку экспонированного фотоматериала и получают контактный растр. марную экспозицию, задаваемую в процессе экспонирования суммой сканов

ЭК п i ксп1 Эксп1 ЭкСппр

+ +(tQKcTI 1 9 tgkcil I Ф ° o ° Ф к п и а

Градационную характеристику контактного растра определяют вкладом каждого скана Е,. К „,. t,„,„; в сумма рную э кспози цию Н интегральная оптическая плотность фотометрируемого участка контактного растраматрицы; оптическая плотность экспонируемого участка фотоматериала;

i-ая интенсивность экспонируемого участка фотоматери-, 154Р770 ала с коэффициентом усиления К „;

n - число сканов.

Способ осуществляют следующим образом.

Составитель Е.Позняк

Редактор А.Мотыль Техред Л.Олийиык Корректор Т,Малец

Заказ 141 Тиран 372 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул.Гагарина, 101

Фотоматериал экспонируют сканирую- 10 щим световым пятном через .контактный растр-матрицу поэлементно суммой сканов, затем каждый элемент фотометрируют и по цепи обратной связи модули >уют сигналрм коррекции сканирующее пятно. Время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна, различные для каждого скана„ Проводят хими <о-фотографическую обработку и сушку фкспонированного фотоматериала и поМучают контактный растр.

Формула изобретения

Способ изготовления контактных растров, включающий экспонирование

Фотоматериала через контактный растрматрицу, его химико-фотографическую обработку и сушку, о т л и ч а ю— шийся тем, что, с целью повышения качества контактных растров за счет получения заданных градационных характеристик, интервала оптических плотностей и улучшения оптико-Фотографических свойств, фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном поэлементно суммой сканов, при этом каждый элемент фотометрируют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно, причем время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого скана.