Способ плазменной обработки поверхности
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Изобретение относится к области и-с ивдппт дзр cvww. -1ЯСЗЛ11 плазменной технологии и может быть использовано для плазменной обработки диэлектрических материалов с целью получения низкосорбционных, защитнодекоративных покрытий на строительных материалах. Цель изобретения - повышение равномерности обработки поверхности по длине дуги. Это достигается наложением,магнитного поля в виде однополярных треугольных импульсов на перемещаемую относительно поверхности дугу, расположенную под углом к этой поверхности. Магнитное поле накладывают в прикатодной области с частотой f V/ds где V - скорость пег-1 ремещения разряда; d - токопроводящий с диаметр дуги. 2 ил. 59
СОЮЗ СОВЕТСНИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИН р (51)5 Н 0 Н .1 ОО
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И О"П.1РЫТИЯМ
ПРИ П.1НТ СССР. (21) 4461524/ф 25, (22) 18.07.88 (71) Томский инженерно-строительный институт (72) Г.Г. Волокитин, В.И. Кишковский и P.Î. Дедюхи Д З) — 53Эт9.(088.8 (56) Авторское свидетельства СССР
У 1071 187, кл. Н 05 П 1/00, 1982..
Генераторы низкотемпературной плазмы. Теэ. докл. Х Всесоюзн. конференции, Каунас, Минск, 1986,,с. 109110. (54) СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ. (57) Изобретение относится к области
Изобретение относится .к области плазменной технологии и может быть использовано для плазменной обработки диэлектрических материалов с целью получения иизкосорбционных защитно,декоративных покрытий.
Цель изобретения — повьппение равномерности обработки поверхности пав длине дуги.
Ка фиг. 1 приведена форма магнитного поля, накладываемого на разряд; на фиг. 2 (а,б,в,г) — форма дуги при наложении на него магнитного поля в различные моменты времени. На фиг ° 2 изображены дуга 1, катод 2 и анод 3.
Способ плазменной обработки поверхности реализуют следующим образам.
Зажигают разряд между анодов и катодом. Дугу перемещают равномерно вдоль обрабатываемой поверхности путем
2 плазменной технологии и может быть использовано для плазменной обработки.диэлектрических материалов с целью получения низкосорбционных, защитнодекаративных покрытий на строительных материалах.. Цель изобретения — повышение равномерности. обработки поверхности по длине дуги. Это достигается наложением,магнитного поля в ниде .опнополярных треугольных импульсов на перемещаемую относительно поверхности дугу, расположенную под углом к, этой поверхности. Магнитное поле накладывают в прикатодной области c иастатой f > V/d, где У вЂ” скорость пе;". ремещения разряда; Й вЂ” токопроводящий а диаметр дуги. 2 ил. перемещения вдаль поверхности плазменного устройства.. В катодной области на дугу накладывают магнитное поле, силовые линии которого перпендикулярны направлению чака дуги.
Дуговое пятно, взаимрдействующее с поверхностью под действием магнитного поля в виде однополярных треугольных импульсов, сканирует между айодом и катодом.
Равномерность оплавления поверх ности достигается согласованием иастоты накладываемого магнитпогo поля со скоростью перемецения дуги и дна:четром ее токового канала. формула и з о бр е те ни я
Способ плазменной обработки поверхности, включающий зажигание дуги, рае3
1549464
4 4
Фиг.Z
Составитель А. Рудиков
Редактор.Т. Юрчикова Техред М.Дидык .Корректор, И." Муска е
Заказ Ф9 7 Д6П . Тираж 766, Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР .
1!3035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 ! 4
Производственно-издательский комбинат Патент", г. Yarород, ул.: Гагарина, 101; положенной под углом к обрабатываемой поверхности, перемещение дуги равномерно вдоль поверхности и изменение формы дуги путем наложения на нее переменного магнитного поля, силовые линии которого перпендикулярны направлению тока дуги и наложены в прикатодной области разряда, о т л и ч а ю " щ н Й с я тем, что, с целью повышения равномерности обработки поверхнос- ти по длине дуги, магнитное поле формируют в виде однополярных треугольных импульсов с частотой, большей отношения скорости перемещения дуги вдоль поверхности к диайетру.токопровоакще1го шнура дуги.