Способ изготовления дифракционных цилиндрических линз

Способ изготовления дифракционных цилиндрических линз

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к технологии изготовления фокусирующих и корригирующих дифракционных оптических элементов. Цель изобретения - повышение дифракционной эффективности. Для этого рассчитывают и формируют фотошаблон в виде круговой амплитудной бинарной зонной пластины 4, выделяют посредством диафрагмы 5 симметричную относительно диаметра полосу фотошаблона, формируют с помощью объектива 6 изображение выделенной полосы фотошаблона на слое фоторезиста, нанесенного на подложку 7, и экспонируют слой фоторезиста, перемещая подложку 7 в направлении, перпендикулярном оси симметрии выделенной полосы фотошаблона, с последующей химической обработкой слоя. При этом ширину выделенной полосы фотошаблона выбирают равной 2√2Fλ, где F - фокусное расстояние фотошаблона

λ - рабочая длина волны излучения для изготавливаемых линз. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (1% (И) (51 ) 5 С 02 В 27/42

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А BTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

Ф (21 ) 448 2266/ 24-) О (22) 01.07.88 (46) 07.06.90. Бюл. Р 21 (7 2) N.Ï . Кит и В .М.Чобанюк (53) 535.853. 31 (088. 8 ) (56) Автометрия, 1985, 1(- 6, с. 12.

Голограммные оптические элементы и их применение в промышленности: Тезисы докладов всесоюзного семинара.—

Л., 1987, с. 50 и 51. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИРРАКЦИОННЫХ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ЛИНЗ (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к технологии изготовления фокусирующих и корригирующих дифракционных оптических элементов. Цель изобретения — повышение дифракционной эффективности. Для этого рассчитывают

2 и формируют фотошаблон в виде кру- говой амплитудной бинарной зонной пластины 4, выделяют посредством диафрагмы 5 симметричную относительно диаметра полосу фотошаблона, формируют с помощью объектива

6 иэображение выделенной полосы фотошаблона на слое фоторезиста, нанесенного на подложку 7, и экспонируют слой фоторезиста, перемещая подложку 7 в направлении, перпендикулярном оси симметрии выделенной полосы фотошаблона, с последующей химической обработкой слоя..

При этом ширину выделенной полосы фотошаблона выбирают равной 2 Г2Л, где f — фокусное расстояние фотошаблона; Л вЂ” рабочая длина волны излучения для изготавливаемых линз.

? ил.

1569788

Изобретение относится k оптическому приборостроению, в частности к технологии изготовления фокусирующих и корригирующих дифракционных оптических элементов.

Целью изобретения является повышение дифракционной эфективности дифракционных цилиндрических линз путем формирования несимметричного профиля их зон.

На фиг. 1 представлена оптическая схема устройства для реализации

1редлагаемого способа; на фиг. 2 фрагмент вьделенной полосы фотошабЛона, распределение величины экспоэицйи Е(х ) в пределах каждой зоны изготавливаемой линзы и профиль .Ь(х) поверхности дифракционной линзы, изготовленной на слое позитивного фоторезиста.

Способ заключается в том, что на

ЭВИ рассчитывают по параметрам изготавливаемой дифракционной цилиндрической линзы фотошаблон и формируют его в виде круговой амплитудной бинарной зонной пластины, вьделяют симметричную относительно ее диаметра полосу, формируют . с помощью объектива изображение выделенной части фотошаблона на слое фоторезиста, нанесенного на подложку, и экспонируют слой фоторезиста, перемещая подложку в направлении, перпендикулярном оси симметрии вьделенной полосы фотошаблона, на величину, равную образующей изготавливаемой линзы, с последующей химической обработкой слоя фотореэиста. При этом ширину выделенной полосы фотошаблона выбирают равной 2 К 21, где f — фокусное расстояние фотошаблона, Л вЂ” рабочая длина водны излучения для изготавливаемых линз.

Установленная из приведенного условия ширина выделяемой полосы фотошаблона обеспечивает распределение величины экспозиции в пределах каждой зоны по несимметричному закону, поскольку величина экспозиции в каждой точке на оси, перпендикулярной направлению движения фотореэиста, прямо пропорциональна длине отрезков, образующихся при пересечении прямых, параллельных направлению движения фотореэиста, с пропускающими зонами фотошаблона.

Несимметричность закона распределения «еличины экспозиции приводит

Ф5

55 после обработки фотореэиста к образованию несимметричного профиля зон, близкого к идеальному. В зависимости от типа дифракционной цилиндрической.линзы (фокусирующая или рассеивающая) применяют позитивный либо негативный фоторезист соответственно.

Устройство для реализации способа содержит источник 1 излучения, спектральный светофильтр 2, конденсатор .3, фотошаблон 4, диафрагму 5, выделяющую полосу фотошаблона, объектив 6 и подложку 7 с нанесенным слоем фо торе зиста, ус тановленную с воэможностью перемещения в плоскости установки в направлении, перпендикулярном оси симметрии вьделенной полосы фотошаблона.

Способ осуществляют следующим образом.

По параметрам изготавливаемой цилиндрической дифракционной линзь. на ЭБМ рассчитывают бинарную амплитудную круговую зонную пластину, все размеры которой увеличивают в К раз, где К вЂ” кратность применяемого объектива, и изготавливают ее, например, на делительной машине на

1 пленке мягкого металла, нанесенного на кварцевую подложку, Далее с помощью диафрагмы 5 вьделяют симметричную относительно диаметра полосу шириной 2 2f, Излучение источника 1 (например, ртутной лампы), прошедшее через спектральный светофильтр 2, концентрируется конденсатором 3 на вьделенной диафрагмой

5 полосе фотошаблона 4, изображение которой формируется объективом 6 на слое позитивного фоторезиста, нанесенном на подложку 7, Подложка 7 равномерно перемещается в направлении, перпендикулярном оси симметрии выделенной полосы фотошаблона, на расстояние, определяемое длиной образующей изготавливаемой линзы. Проэкспонированный таким образом слой фоторезиста подвергают химической обработке.

Пример. Получают образцы дифракционных цилиндрических линз со световым отверстием 5,2х20 мм и фокусным расстоянием 30 мм на слоях негативного фотореэиста. Дифракционная эффективность изготовленных линз составляет 60-75_#_ Фотошаблон изготовлен в виде зонной пластины диаметром 52 мм со скважностью штри.

Формула изобретения

Способ изготовления дифракционных цилиндрических линз, заключающийся в том, что рассчитывают и формируют фото шаблон в в ид е к pyr о в ой амп литудной бинарной эонной пластины, выделяют симметричную относительно диаметра полосу фотошаблона, формируют изображение выделенной поСоставитель В. Кравченко

Те хред М. Дидык КоРРектоР С. Щевкун

Редактор И. Дербак

Заказ 1448 Тираж 460 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, iK-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r.ужгород, ул. Гагарина, 101

5 156 хов 1:10. (1ирина выделенной вдоль диаметра полосы составляет 3,89 мм.

Для формирования изображения используют объектив с уменьшением 10 х

9788 6 лосы фотошаблона на слое фоторезиста, нанесенного на подлож-ку, и экспонируют слой фоторезис5 та, перемещая подложку в направлении, перпендикулярном оси симметрии выделенной полосы фотошаблона, с последующей химической обработкой слоя, отличающийся тем,что, с целью повышения дифракционной эффек тив нос ти и эг от а влив а емых лин э, ширину выделенной полосы фотошаблона выбирают равной 2 \ 2f h где f фокусное расстояние фотошаблона, 4 =, рабочая длина волны излучения для изготавливаемых линз.