Питатель для сыпучих материалов

Питатель для сыпучих материалов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к устройствам для выдачи сыпучих материалов из бункеров при непрерывном дозировании. Цель изобретения - повышение равномерности подачи материала. При помощи шибера 6, который размещен между щитами 5, образует открытую сверху камеру и шарнирно подвешен на коротких плечах 7 рычагов типа параллелограмм, установленных на осях 8, на длинных плечах которых расположена регулируемые противовесы 10, аккумулируют дополнительный материал. Это позволяет стабилизировать поток материала. В результате повышается точность дозирования. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

„„Я1.1 „„1588667

А1 (51)5 В 65 G 65/44

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

Н А ВТ0РСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4442648/31-11 (22) 20.06.88 (46) 30.08.90. Бюл. № 32 (71) Запорожский индустриальный инсти тут (72) Б.А. Воронин, И.Н. Бубнов, Е.Н. Щапов, В.И. Скорняков, В.М. Пеганов и Т.В. Ищенко (53) 621.86.067 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 533535, кл. В 65 G 65/34, 1974.

2 (54) ПИТАТЕЛЬ ДЛЯ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ (57) Изобретение относится к устройствам для выдачи сыпучих материалов из бункеров при непрерывном дозировании. Цель изобретения — повышение равномерности подачи материала. При помощи шибера 6, который размещен между щитами 5, образует открытую сверху камеру и шарнирно подвешен на коротких плечах 7. рычагов типа параллелограмм, установленных на осях 8, на длини ых плечах которых расположены регул ируемые противовесы 10, аккумулируют дополнительный материал. Это позволяет стабилизировать поток материала. В результате повышается точность дозирования. 2 ил.

1588667

Формула изобретения

Изобретение относится к устройствам для выдачи сыпучих материалов из бункеров при непрерывном дозировании и может быть использовано в металлургической, химической и других отраслях промышленности.

Цель изобретения — повышение равномерности подачи материала.

На фиг. 1 показан питатель сыпучих материалов с шиберной заслонкой, общий вид; на фиг. 2 — схема сил, действующих на шиберную заслонку питателя.

Питатель содержит бункер 1 с разгрузочным патрубком 2, установленный под последним лоток 3 с вибратором 4.

Между боковыми щитами 5 размещен шибер 6 на расстоянии 0,4 — 0,8 ширины выпускного отверстия патрубка и образует открытую сверху камеру. Шибер шарнирно подвешен на коротких плечах 7 рычагов типа параллелограмм, установленных на осях 8. На длинных плечах 9 рычагов установлены регулируемые противовесы 10. Рычаги имеют регулируемые верхний 11 и нижний 12 упоры.

Устройство работает следующим образом.

При стабильном истечении материала из бункера 1 шибер 6 находится в верхнем положении, рычаги опираются на нижний упор за счет момента М>, создаваемого противовесами. Материал движется по лотку 3 питателя слоем высотой h зависящей от физико-механических свойств материала, конструктивных и эксплуатационных параметров питателя (угла наклона лотка, амплитуды вибрации питателя). Верхнее положение шибера обеспечивает свободное движение слоя материала высотой h, При образовании в бункере 1 зависания или свода включается пневматический обрушитель и в бункер подается импульс сжатого воздуха. Обрушаемый материал насыщается воздухом и приобретает высокую подвижность — псевдоожижается. Насыщенный воздухом материал резко увеличивает скорость движения по лотку 3, а высота движущегося слоя возрастает до высоты

Йз, равной высоте разгрузочного окна патрубка. Это приводит к резкому нарушению дозированной выдачи материала.

Предлагаемое устройство предотвращает нарушение дозировки следующим образом.

Шибер 6 срезает часть движущегося слоя на величину Лй . Так как насыщенный воздухом материал подвижен, то срезаемый слой поднимается вверх и заполняет открытую сверху камеру, образованную щитами 5 и шибером 6 до определенной высоты h< В отличие от прототипа дополнительный материал аккумулируется в открытой сверху камере и дозировка не нарушается. Кроме того, аккумулированный в камере материал массой Q давит на движущийся слой и за счет увеличения силы трения частично снижает скорость его перемещения.

Кроме того, под действием силы P давления материала на плоскость шибера, величина

50 которой зависит в первую очередь от силы трения при срезании слоя материала, возникает момент М> на коротких плечах рычагов.

Когда значение момента Ni превысит величину момента М от действия противовесов, то рычаги повернутся вокруг опорных осей, шибер опустится и уменьшит на величину

Ahi высоту перемещаемого слоя материала до величины hg. Максимальная величина

ЛЙ регулируется с помощью верхнего винтового упора.

При расстоянии, меньшем 0,4 ширины выпускного отверстия патрубка, размер камеры оказывается слишком малым и не позволяет аккумулировать весь объем слоя срезаемого материала. Расстояние больше

0,8 ширины выпускного отверстия нецелесообразно конструктивно, так как устройство получается громоздким, требует большой длины лотка питателя, что приводит к увеличению мощности привода питателя. В то же время размер в пределах 0,4 — 0,8 ширины выпускного отверстия позволяет аккумулировать весь срезаемый слой материала.

Ось рычагов находится в пределах 50-—

70 от вертикальной плоскости. Выбор данных пределов обусловлен следующим. При изменении угла наклона в зоне до 50 наблюдается резкий рост момента Мь что приводит к повышенной чувствительности шиберного устройства и неустойчивости его работы.

При угле поворота более 70 изменение момента незначительно и чувствительность рычажного устройства недостаточна. В зоне

50 — 70 от вертикальной плоскости зависимость 16=f (L) практически пропорциональна. Поэтому данная зона является предпочтительней для работы шиберного устройства.

Регулируя величину противовесов можно для конкретного материала и конкретных условий подобрать соотношение моментов

Ni и М таким, что будет обеспечено автоматическое поддержание стабильного потока материала на разгрузочном лотке питателя. Плечи рычагов, на которых установлены противовесы, имеют длину в 2 — 2,5 раза большую, чем плечи, на которых подвешен шибер.

Установка шибера на рычагах типа параллелограмм позволяет осуществлять плоскопараллельное перемещение шибера при повороте рычагов, что делает более жесткой взаимосвязь моментов Mi и Мр. Это позволяет осуществить плавное регулирование момента Мг и обеспечивает стабилизацию потока материала. В результате повышается точность дозирования.

Питатель для сыпучих материалов, содержащий бункер с разгрузочным патрубком, расположенный под ним вибролоток и установленный над последним с возможностью перемещения в вертикальной плоскости шибер с противовесом для регулирования выходного потока материала, отли5 ийся тем, что, с целью повышения равриала разгрузочныи ности подачи матери номер с боковыми щитами, патру т бок выполнен с аллельно продольной р, б установлен между ложенными паралл . оси вибролотка, ши ер со смещением от патупом у ян тыми щитами со ного конца вибролотбка в сторону выходного к

0,4 — 0,8 ширины выпускного отка, р авным бка и с возможностью плосверстия патрубка, и с

1588667

6 аЛЛЕ,пЬНОГО П перемещения посредств копар - онтальнои оси по закрепле нного на гориз плечего рыча га, краинеи РМЕ Р ОДНОГО ДВУ расположено под о ное плечо которого ра свободн икальной плОскОсти с

ым глом к вертика

Отиво вес уста плече двуплечего рыновлен на свободном плече чага.

Составитель Н. Никитина

В. Г няк то А. Долинин

Тираж 670 м п и ГКНТ СССР

Заказ 2511 бретениям и открытиям при Г д р ного комитета по изо рет

Ж вЂ”, ау, . 5 ий комбинат «Патент», r. жг

Производственно-издательскии к