Устройство для измерения линейных перемещений

Устройство для измерения линейных перемещений

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е I65903

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Кл. 42b, 8о1

42h, 20pg

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 22 у П.1963 (№ 849245/26-25) с присоединением заявки №

Приоритет

МПК 6 015

G 024

Государственный комитет по делам изобретений и открытий СССР

УДК

Опубликовано 26.Х.1964. Бюллетень № 20

Дата опубликования описания 8.XII.1964

Лвторы изобретения

Ф. М. Герасимов и Г. Н. Рассудова

Государственный оптический институт имени С. И. Вавилова

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ЛИНЕЙНЫХ ПЕРЕМЕЩЕНИЙ

Предмет изобретения

Подписная группа № 114

Устройства для измерения линейных перемещений с получением муаровой картины полос со смещенными фазами, содержащие систему из двух дифракционных решеток, известны. Они содержат две щели, смещенные одна относительно другой на 90 по фазе муаровой полосы. Это в значительной степени снижает светосилу таких устройств.

Предлагаемое устройство отличается тем, по, с целью увеличения светосилы при создании заданного сдвига полосы по фазе, расстояние между двумя центральными штрихами одной из решеток изменяется по сравнению с расстоянием между остальными штрихами на заранее рассчитанную величину. Ðåшетка, таким образом, оказывается как бы составленной из двух частей, одна из которых сдвинута относительно другои.

Для получения заданного смещения фаз сигналов при изготовлении решетки расстояние между двумя ее ценгральными штрихами изменяется на М=Лп в, где Кп — заданная разность фаз сигналов в долях полного цикла; в — относительное смещение решеток в направлении измерения, необходимое для перемещения муаровой картины на одну поло5 су.

Световой поток, прошедший через две половины решетки, можно направлять на отдельные фотоприемники.

Устройство для измерения линейных перемещений с получением муаровой картины полос со смещенными фазами, содержащее си 5 стему из двух дифракцпонных решеток, о тличающееся тем, что в пем, с целью увеличения светосилы при создании заданного сдвига полосы по фазе, расстояние между двумя центральными штрихами одной пз ре20 шеток отличается от расстояний между остальными штрихами на заранее рассчитанную величину.